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[实用新型]清洁机器人-CN202122345756.8有效
发明人：李胜;杨军 -专利权人：深圳银星智能集团股份有限公司
申请日： 2021-09-26 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： A47L11/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及清洁设备领域，提供一种清洁机器人，包括机器主体，以及设于机器主体内的风机和气体发生器，气体发生器用于产生杀菌气体，气体发生器的输出端设置在风机的出风端处。清洁机器人可通过气体发生器产生杀菌气体，并将杀菌气体沿气体发生器的输出端输送至风机的出风端；再通过从风机的出风端排出的风流带动杀菌气体一起排放至机器主体外部，以持续分解空气中的一氧化碳、甲醛、苯类等有害物质其中，杀菌气体的流动路径均避开了清洁机器人的其他功能机构的过滤结构，从而可基本避免杀菌气体在排放至机器主体外部前被各过滤结构过滤掉的情况发生，从而可有效保障清洁机器人所实际发挥的空气净化效果。
清洁机器人

[发明专利]金属互连清洗装置及清洗方法-CN201811313715.7在审
发明人：张凇铭;惠世鹏;刘效岩;许璐 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种金属互连清洗装置及清洗方法，清洗装置包括：纳米气泡摆臂，其端部设有纳米气泡喷头，纳米气泡喷头连接于纳米气泡发生器，纳米气泡发生器用于连接至辅助气体管路和超净水管路；清洁液摆臂，其端部设有清洁液喷头，清洁液喷头用于连接至清洁液管路；辅助气体摆臂，其端部设有辅助气体喷头，辅助气体喷头用于连接至辅助气体管路；纳米气泡摆臂、清洁液摆臂和辅助气体摆臂设置在清洗腔室内，且能够分别带动纳米气泡喷头、清洁液喷头、辅助气体喷头在安装于晶圆卡盘上的晶圆上方摆动。
喷头纳米气泡清洁液摆臂辅助气体颗粒残留物纳米气泡发生器辅助气体管路晶圆表面清洗装置清洗静电吸附作用金属互连晶圆卡盘净水管路清洗腔正电荷摆动晶圆中和室内

[发明专利]一种托盘结构、薄膜沉积装置和方法-CN202110891241.X在审
发明人：刘凯;郭泉泳 -专利权人：中微半导体设备（上海）股份有限公司
申请日： 2021-08-04 - 公布日： 2023-02-17 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明公开了一种托盘结构、薄膜沉积装置和方法，该托盘结构包含：主承载盘，其上表面包括多个向下凹陷部；多个轴承组件，分别设置于所述凹陷部内；多个行星盘，支撑于所述轴承组件上，所述行星盘用于承载待处理晶圆；驱动气体通道，设于主承载盘内，用于提供驱动气体以驱动所述行星盘沿轴承组件转动；清洁气体通道，设于主承载盘内，用于提供清洁气体到所述凹陷部以清洁凹陷部的内部。其优点是：其将主承载盘、行星盘、轴承组件、驱动气体通道和清洁气体通道等相结合，直接或间接地实现了行星盘的自转和公转，有助于提高晶圆的薄膜沉积均匀性，且清洁气体通道保证行星盘底部的环境清洁，避免行星盘和轴承组件转动时产生颗粒污染物污染腔内环境
一种托盘结构薄膜沉积装置方法

[实用新型]辊子清洁装置及其涂布机-CN201822189791.3有效
发明人：闫飞 -专利权人：中兴高能技术有限责任公司
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-09-20 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型适用于电池生产设备领域，提供了一种辊子清洁装置及其涂布机。上述辊子清洁装置包括用于输送清洁介质对所述辊子进行冲洗的清洁介质输送管和用于输送气体对所述辊子进行干燥的气体输送管，还包括用于分配所述清洁介质和所述气体的分配件，所述清洁介质输送管和所述气体输送管均与所述分配件连通上述涂布机包括机架和用于将物料涂布在被涂布材料上的辊子，还包括上述的辊子清洁装置，所述辊子和所述辊子清洁装置均安装在所述机架上。辊子清洁装置实现了对辊子在线自动清洁的目的，清洁过程无需拆卸，清洁效率高，需要的时间短，使涂布机能够满足持续生产的使用需求。
辊子清洁装置清洁介质涂布机分配件气体输送管输送管本实用新型电池生产清洁过程清洁效率设备领域输送气体涂布材料物料涂布轴向方向自动清洁长条形拆卸冲洗连通分配生产

[发明专利]超声清洁方法和超声清洁装置-CN201310188703.7有效
发明人：久保悦子;榛原照男;森良弘;内部真佐志 -专利权人：硅电子股份公司
申请日： 2013-05-21 - 公布日： 2013-12-04 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明的主题提供了超声清洁方法和超声清洁装置，通过所述方法和设备以稳定的方式得到高颗粒去除率。解决问题的手段是一种超声清洁方法，所述方法用于通过用超声波辐照液体而在所述液体中清洁待清洁的物体，所述液体中溶解有气体，所述方法包括以下步骤：制备溶解有气体的液体(S10)。用超声波辐照液体的同时在液体中产生气泡，并且实现连续产生含有溶解在液体中的气体的气泡的状态(S20)。在连续产生含有气体的气泡的状态中清洁待清洁的物体(S30)。
超声清洁方法装置

[实用新型]一种清洁装置-CN201621353551.7有效
发明人：米琳;张海烽;任保军 -专利权人：中芯国际集成电路制造（北京）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2016-12-09 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本实用新型提供一种清洁装置，适于对低K材料的晶圆表面进行清洗，所述清洁装置包括清洁腔室，适于提供一密封的工作环境；旋转装置，承载所述晶圆并带动其旋转；气体管道，位于所述旋转装置上方，适于输出气体冲洗所述晶圆表面，所述气体管道沿着所述晶圆的半径方向做往复运动，并与所述旋转装置配合以冲洗所述晶圆的全部表面；排气装置，适于抽取所述清洁腔室内的气体和污染颗粒。本实用新型的清洁装置解决了低K材料的晶圆表面清洁不适于液体冲洗的问题，同时提高了清洁效率。
一种清洁装置

[发明专利]氮化钽干法刻蚀后的清洁方法-CN201310533119.0在审
发明人：邱鹏;王宇翔;张挺;杨鹤俊 -专利权人：上海矽睿科技有限公司
申请日： 2013-10-31 - 公布日： 2015-05-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明揭示了一种氮化钽干法刻蚀后的清洁方法，所述清洁方法包括如下步骤：将刻蚀后的器件放入有各向同性刻蚀功能的腔室中；向该腔室中通入清洁气体，清洁气体包括氧气和含氟F或/和氯Cl或/和溴Br的气体，含氟F或/和氯Cl或/和溴Br的气体的含量为清洁气体的0.5～50%；控制所述腔室的温度在70℃～250℃，控制所述腔室的压力在0.5～3Torr；用等离子体对基底进行反应刻蚀，去除基底表面和侧壁的含有钽的聚合物本发明提出的氮化钽干法刻蚀后的清洁方法，可代替湿法清洁，工艺简单、时间短，工艺成本低，提高了生产效率。
氮化钽干法刻蚀清洁方法

[发明专利]用于涡轮机的基于亚稳态清洁剂的泡沫清洁系统和方法-CN201611130752.5有效
发明人： A.J.库尔卡尼;B.P.布莱;B.A.小普里查;N.J.蒂贝茨;M.E.埃里克森;S.威尔顿 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2016-12-09 - 公布日： 2019-12-13 - 主分类号： F01D25/00 文献下载
摘要：本发明涉及用于涡轮机的基于亚稳态清洁剂的泡沫清洁系统和方法，具体而言，根据本发明公开的实施例包括涡轮机清洁系统的基于亚稳态清洁剂的泡沫产生装置，包括构造成接收液体清洁剂和膨胀气体的歧管，构造成存储膨胀气体的气体供应源，以及与气体供应源和歧管流体地联接并位于它们之间的一个或更多充气机。一个或更多充气机的每一个充气机都包括孔口，膨胀气体通过该孔口进入歧管，并且其中每个充气机的孔口的尺寸都设置成使得能够产生基于亚稳态清洁剂的泡沫，基于亚稳态清洁剂的泡沫具有气泡且气泡直径在10微米(3.9
用于涡轮机基于亚稳态清洁剂泡沫清洁系统方法

[实用新型]一种水下探头窗片清洁装置-CN201621324292.5有效
发明人：裘知;朱安生;许伟 -专利权人：浙江西地环境科技有限公司
申请日： 2016-12-05 - 公布日： 2017-06-20 - 主分类号： B08B5/02 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种清洁装置，特别涉及一种水下探头窗片清洁装置。一种水下探头窗片清洁装置，包括本体、设置在本体内部的清洁管路和防逆流部件，所述的清洁管路包括气腔和气体通道，气腔设置在本体端部，气腔的一端设有与外部供气设备连接的凹口，气腔的另一端与气体通道连接，气体通道为横卧的“Y”型结构，气体通道的单头段端部与气腔连接，所述的防逆流部件设置在气体通道的分岔位置。与气腔凹口相连的外部供气设备可以选择为高压气泵，防逆流部件的作用是将清洁装置外部的水阻挡在清洁装置的气腔外部，防止气腔内残留水。
一种水下探头清洁装置

[发明专利]衬底处理装置及半导体装置的制造方法-CN201610487644.7在审
发明人：八幡橘;高野智;丰田一行;松井俊 -专利权人：株式会社日立国际电气
申请日： 2016-06-28 - 公布日： 2017-10-10 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：其设置于载置衬底的衬底载置台，用于对处理室和衬底进行加热；移载室，其设置有用于将衬底移载至处理室的衬底载置台；分隔部，其用于将处理室和移载室分隔开；第2加热部，其设置在比移载室的分隔部靠下方侧的位置；处理气体供给部，其用于向处理室供给处理气体；第1清洁气体供给部，其用于向处理室供给清洁气体；第2清洁气体供给部，其用于向移载室供给清洁气体；控制部，其控制第1加热部、第2加热部、第1清洁气体供给部以及第2清洁气体供给部
衬底处理装置半导体制造方法

[发明专利]硅蚀刻与清洁-CN201510965135.6有效
发明人：汤姆·A·坎普;亚历山大·M·帕特森;尼马·拉斯特加尔 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及硅蚀刻与清洁。提供了一种用于将特征蚀刻到含硅蚀刻层中的方法。将蚀刻层放置到等离子体处理室中。使蚀刻气体流入所述等离子体处理室。使蚀刻气体形成蚀刻等离子体，其中所述蚀刻等离子体将特征蚀刻到所述含硅层中，留下含硅残留物。使蚀刻气体停止流入所述等离子体处理室。使干燥的清洁气体流入所述等离子体处理室，其中所述干燥的清洁气体包括NH₃和NF₃。使所述干燥的清洁气体形成等离子体，其中使所述含硅残留物暴露于所述干燥的清洁气体的等离子体，并且其中所述含硅残留物中的至少一些或全部形成含铵化合物。使所述干燥的清洁气体的流动停止。使铵化合物从膜升华。
蚀刻清洁

[实用新型]一种阀门控制的VOC处理系统-CN201921961925.7有效
发明人：崔鹰;金垠渊 -专利权人：崔鹰;育畅（上海）环保科技有限公司;上海大圆荣国际贸易有限公司
申请日： 2019-11-14 - 公布日： 2020-11-03 - 主分类号： F23G7/06 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种阀门控制的VOC处理系统，包括第一主体，VOC废气入口管，吹扫气体供给管，清洁气体排放管和第二主体，其中所述第一主体包括上部燃烧室和下部预热区；所述第二主体包括第一罐、第二罐、VOC废气入口槽和清洁气体排出槽；所述第二主体位于所述第一主体的下方，两者之间通过所述VOC废气入口管、清洁气体排放管连通；所述预热区包括蓄热构件和第三罐；所述VOC废气入口管上安装有第一阀；所述清洁气体排放管上安装有第二阀；所述吹扫气体供给管上安装有第三阀。通过各阀门独立的开闭，控制VOC废气经燃烧转化为清洁气体且避免了清洁气体排出时混入VOC废气，提高产品可靠性，同时蓄热构件表面的直线设计，有效提高了蓄热构件的储热效率。
一种阀门控制 voc 处理系统

[发明专利]原位室清洁方法-CN200810175538.0无效
发明人：小尻英博 -专利权人：应用材料股份有限公司
申请日： 2008-11-03 - 公布日： 2009-05-13 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：在具有包括多个孔的气体分配部件的室中实施原位室清洁方法。清洁气流通过一些孔提供到室中，同时没有清洁气流通过剩余的孔提供。清洁气流被离子化，以使离子化的清洁气体基团被用来对室进行清洁。
原位清洁方法

[发明专利]制备清洁介质的方法以及用于清洁工件的方法和清洁装置-CN200880011399.6有效
发明人：埃贡·卡斯克 -专利权人：杜尔艾科克林有限公司
申请日： 2008-04-01 - 公布日： 2010-02-17 - 主分类号： B08B3/00 文献下载
摘要：为了提高制备清洁介质的方法的效率，建议，将清洁气体尤其是空气引入存储器(6)中，并且将加压的清洁液体(38)引入存储器中，用来对处于初始压力之下的清洁气体进行加压。此外还建议了一种对工件进行清洁的方法以及清洁装置。
制备清洁介质方法以及用于工件装置

[发明专利]一种气体的清洁方法-CN201110074393.7无效
发明人：肖石军 -专利权人：肖石军
申请日： 2011-03-20 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： B01D47/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于环保、卫生防护领域的一种气体的清洁方法。现有的气体清洁方法等类虽多，但有的清洁效果不足，有的成本高。本发明的目的是提供一种简便高效、成本低廉的气体的清洁方法。能提高气体的清洁效果，其造价底，应用范围广。该发明设计有滤液污物储存器①、滤液污物储存器①内盛有适量滤液②，滤液污物储存器①盖上有多根导气细管③伸入滤液②内，有出气接口④连接导气主管⑤，导气主管⑤连接吸气器⑥，使吸气器吸入的气体在滤液内流过，以达到清洁效果它设计合理，结构简单，可用于口罩式呼吸器、空气滤清器、吸尘器、吸尘车、工业除尘器、烟囱除尘脱硫、内燃机废气清洁器、居室空气清洁(更换)器、二氧化碳吸收器等。
一种气体清洁方法

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