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[发明专利]一种便于维护的曝光机-CN201811144382.X在审
发明人：庞超群;陶薇 -专利权人：张家港奇点光电科技有限公司
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种便于维护的曝光机，包括曝光机外壳，蓄电池，可调软管，电源开关，辅助照明灯，机盖，提手，可更换曝光灯灯架结构，备用曝光灯灯架储存框结构，可调节底架结构，固定外框，导风管，风机支架和微型轴流风机，所述的蓄电池胶接在曝光机外壳的上部；所述的可调软管胶接在蓄电池的上部右侧；所述的电源开关胶接在蓄电池的右侧；所述的辅助照明灯胶接在可调软管的右端。本发明曝光灯架的上侧嵌入有LED曝光灯，利于在单个曝光灯架上的LED照明灯损坏时，将单个曝光灯架拆除即可，且方便进行维护该装置；备用灯架放置在储存槽内，有利于对备用灯架进行储存，从而方便在曝光灯架损坏时能够及时供给
曝光灯蓄电池曝光机灯架胶接可调辅助照明灯单个曝光电源开关软管备用灯微型轴流风机储存灯架结构底架结构风机支架固定外框储存槽导风管可调节可更换框结构软管胶维护机盖提手备用嵌入拆除

[发明专利]单机双台面多工位自动PCB板曝光设备及其曝光方法-CN201510444870.2在审
发明人：王小爱;程珂;赵华 -专利权人：江苏影速光电技术有限公司
申请日： 2015-07-27 - 公布日： 2016-01-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开一种单机双台面多工位自动PCB板曝光设备及其曝光方法，包括PCB板洁净机、PCB板曝光机、两个机械手、待曝光料仓和完成曝光料仓；曝光方法：a.机械手将PCB板由待曝光料仓放置在PCB板洁净机上；b.PCB板在PCB板洁净机清洁；c.清洁完成后，该机械手将PCB板由PCB板洁净机放置在第一工位进行PCB板正面曝光；d.曝光完成后，该机械手将PCB板取出传递给另一个机械手；e.另一个机械手将PCB板放在第二工位进行PCB板反面曝光；f.曝光完成后该机械手将正反两面的曝光完成的PCB板放置在完成曝光料仓上。PCB板的清洗和曝光都由机械手完成操作，提高效率，增加产能，减小人为因素带来的放板误差，提高放板精度，多维度机械手的稳定性高，使得整套系统的无故障时间小。
单机台面多工位自动 pcb 曝光设备及其方法

[发明专利]同一光刻工艺中不同光刻机的匹配方法-CN201210433784.8有效
发明人：李玉华 -专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2012-11-01 - 公布日： 2014-05-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种同一光刻工艺中不同光刻机的匹配方法，所述不同光刻机的曝光视场呈整数倍关系，且所述光刻机按曝光视场从大到小的顺序，依次对硅片进行曝光。本发明通过减少低端光刻机的曝光视场，使得不同光刻机的曝光视场呈整数倍关系，可以大幅提高高端光刻机台的产能，从而实现更高的产品附加值。
同一光刻工艺不同匹配方法

[实用新型]一种曝光机-CN201720904592.9有效
发明人：付菊玲 -专利权人：深圳市欣光辉科技有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2018-04-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种曝光机，包括机座、设置于机座内的曝光室，所述的曝光机还包括用于放置PCB板及底片的曝光框架、第一LED灯模组、第二LED灯模组、冷却系统、真空系统及电控系统，所述的第一LED灯模组设置于所述曝光室顶部，所述的第二LED灯模组设置于所述曝光室底部，所述的真空系统用于对所述的曝光框架抽真空，所述的冷却系统用于对所述的第一LED灯模组及第二LED灯模组进行冷却散热，所述电控系统连接所述的第一LED灯模组及第二LED灯模组用于控制曝光时间。本技术方案中的一种曝光机，曝光充分，节能环保。
一种曝光

[发明专利]一种电子束曝光机、调焦方法及装置-CN202011623770.3在审
发明人：贺晓彬;李亭亭;唐波;刘金彪;李俊峰;杨涛 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2020-12-31 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种电子束曝光机、调焦方法及装置，通过增设光学聚焦测试装置，将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，然后基于当前曝光单元对应的反射光图像，得到当前曝光单元的位置信息，进而根据该位置信息调整当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性，有利于减小束斑尺寸，提高电子束曝光的分辨率。
一种电子束曝光调焦方法装置

[发明专利]一种连续曝光装置-CN201710983153.6在审
发明人：闵庆楠;白承铁;朴允俓;朴玟俓;杨鸿麟 -专利权人：贵州星瑞安科技有限公司
申请日： 2017-10-20 - 公布日： 2018-03-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种连续曝光装置，它包括曝光机，所述曝光机的两端分别设有输入装置和输出装置，曝光机的顶部有可以打开的盖子，其前面设有PLC控制器，曝光机的中间还设有一条平皮带，平皮带穿过曝光机的两侧面与输入装置和输出装置相邻在曝光机的上面让制版连续的装载并自动的进行作业,可以缩短制程时间,作业的数量也会增多,由于可以自动的安置,卸载,在进行曝光制程的时候也可以进行其他的制程作业,这样可以提高作业效率,减少不必要的人力消耗.
一种连续曝光装置

[实用新型]翻转式网版曝光机-CN201120093294.9有效
发明人：马志明 -专利权人：旺昌机械工业(昆山)有限公司
申请日： 2011-04-01 - 公布日： 2011-09-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种翻转式网版曝光机，它包括一曝光机架及一曝光台，曝光台的中心轴处设有一翻转轴承，曝光机架顶部两侧的中间位置分别设有一与翻转轴承相匹配的轴承座，曝光台通过翻转轴承与轴承座的配合转动设于曝光机架上，曝光机架的一侧滑动设有一灯源组。本实用新型的曝光台与曝光机架采用转动方式，可以设计大型、超大型尺寸规格的网版机，此外采用移动灯源组曝光，这样可以调节曝光距离，适合各种规格的板材，灵活度较高。
翻转式网版曝光

[实用新型]一种曝光机用的电路控制器件-CN201720902437.3有效
发明人：付菊玲 -专利权人：深圳市欣光辉科技有限公司
申请日： 2017-07-25 - 公布日： 2018-02-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提出了一种曝光机用的电路控制器件，包括供电单元，所述的电路控制器件还包括与所述的供电单元相连接的与至少一个位移传感器相连接的曝光电路系统，所述的曝光电路系统包括以下电路模块位移采集电路单元，用于采集曝光框架的移动位置；曝光启动电路单元，用于根据所述的曝光框架移动位置来启动曝光；回收电路单元，用于回收曝光完成后的曝光框架。本技术方案提出的曝光机用的电路控制器件，用于对放置PCB板的曝光框架进行充分曝光。
一种曝光电路控制器件

[发明专利]拍摄方法、装置、设备及存储介质-CN202210259157.0在审
发明人：李睿 -专利权人：华为技术有限公司
申请日： 2022-03-16 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： H04N23/65 文献下载
摘要：该方法包括：从配置的相机模组中确定第一相机模组和第二相机模组，调整第一相机模组的曝光帧率为第一曝光帧率、第二相机模组的曝光帧率为第二曝光帧率。控制第二相机模组与第一相机模组进行协同拍摄，具体地，控制第一相机模组开始拍摄第一帧，控制第二相机模组开始拍摄第二帧，第二帧的开始时间比第一帧的开始时间延后第一时长，第一时长与第一曝光帧率以及第二曝光帧率相关该方法中，第一相机模组和第二相机模组能够以不同的曝光帧率进行拍摄，各自的曝光出图可以在帧尾保持同步，保证了拍摄图像的出图效果的同时，降低了相机模组由于非必要高帧率而产生的功耗。
拍摄方法装置设备存储介质

[实用新型]一种曝光机-CN201521142679.4有效
发明人：凡明明 -专利权人：阜阳欣奕华材料科技有限公司
申请日： 2015-12-31 - 公布日： 2016-08-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机，用以解决现有技术测得的CD bias不稳定的问题。曝光机包括若干不同曝光距离的基台，每一所述基台包括基台本体和基台突起，所述基台本体用于放置待曝光的基板，所述基台突起用于确定曝光距离，所述曝光距离为所述待曝光的基板与掩膜板之间的距离。
一种曝光

[实用新型]一种基于LCOS技术的可视化曝光机-CN201820873035.X有效
发明人：孙雷;张洪波;张婧姣 -专利权人：联士光电（深圳）有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种基于LCOS技术的可视化曝光机，包括曝光机光源、对准光源、45度二向光学元件、整形匀光元件、偏振分光元件（PBS）、LCOS、45度分光元件、投影系统、待曝光工件和相机。对准光源经45度二向光学元件反射，曝光机光源发出的光透过45度二向光学元件，经整形匀光元件的整形和匀光，p型偏振光通过PBS入射到高分辨率LCOS上，LCOS反射的光为s型偏振光，经PBS反射和45度分光元件进入投影系统再投射到待曝光工件对准光源的光入射到待曝光工件，实现曝光精确定位，曝光机光源入射到待曝光工件的一部分光被待曝光工件反射，经投影系统后被45度分光元件反射到相机，可实时观测待曝光工件并实现对准及套刻。
曝光工件光源曝光机反射分光元件光学元件投影系统对准整形偏振光匀光元件可视化入射相机偏振分光元件本实用新型高分辨率实时观测光入射光透过和匀套刻投射曝光

[实用新型]一种方便拆卸维修的手机网板生产用曝光机-CN201821836809.8有效
发明人：吴安平 -专利权人：江西丝安本精密制版有限公司
申请日： 2018-11-08 - 公布日： 2019-04-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种方便拆卸维修的手机网板生产用曝光机，包括曝光机本体，所述曝光机本体内部设置有驱动电机、第一齿轮、第二齿轮和曝光灯，所述曝光灯下方固定设置有传送机构，所述曝光机本体一侧的内壁上开设有通孔本实用新型可以控制曝光灯与传送机构之间的距离，使手机网板始终处于最佳曝光位置，提高了手机网板的曝光质量，另外，可以拆下挡板，通过通孔可以对曝光灯进行拆卸更换，方便在手机网板生产时对曝光灯进行维修。
曝光灯曝光机手机网挡板板生产通孔本实用新型传送机构方便拆卸两侧设置固定板齿轮滑块维修最佳曝光位置拆卸更换固定设置内部设置驱动电机螺纹孔拆下内壁网板曝光外部

[发明专利]具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机-CN201410162785.2在审
发明人：童立峰;戴韫青;王剑 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2014-10-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机，包括：硅片刻号读取装置，设置在硅片入端和具有硅片刻号读取及硅片存储装置的双曝光平台之曝光机的第一曝光平台和第二曝光平台之间；硅片存储装置，用于存储前层曝光机台与当前闲置机台不一致之硅片；第一曝光平台和第二曝光平台，第一曝光平台用于曝光前层曝光机台为第一曝光平台的硅片，第二曝光平台用于曝光前层曝光机台为第二曝光平台的硅片。本发明通过在硅片入端和第一曝光平台和第二曝光平台之间设置硅片刻号读取装置，并根据硅片之刻号信息获得硅片之前层曝光机台信息，以保证后层曝光机台与前层曝光机台一致，不仅提高硅片前后层堆叠对准度，而且改善产品质量
具有硅片读取存储装置曝光平台

[发明专利]一种直写式微米级光刻机-CN202110823786.7在审
发明人：黄良斌;刘冉;孙润光;孙润文 -专利权人：领先光学技术（常熟）有限公司
申请日： 2021-07-21 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种直写式微米级光刻机，属于光刻机领域。包括基座、工作台、曝光头、运动机构、定位机构；其中，工作台设置在所述基座上，用于放置、固定待曝光基材；曝光头设置在所述工作台上方，采用micro LED紫外数字光源，可变换不同曝光图案；运动机构为三坐标运动机构，用于调整所述曝光头相对于所述工作台的位置；定位机构包括设置在所述三坐标运动机构上的多个位置传感器，用于检测所述曝光头相对于所述工作台的位置；本发明通过定位机构获得所述曝光头相对于待曝光基材表面的位置，通过micro LED紫外数字光源变换待曝光基材表面上该区域所对应的曝光图案，实现对待曝光基材表面的曝光，保证了光刻机的运动精度。
一种式微光刻

[发明专利]一种晶圆上曝光区域的排布方法-CN201910529996.8有效
发明人：赖璐璐 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-06-19 - 公布日： 2021-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种晶圆上曝光区域的排布方法，包括：提供曝光区域信息以及影响曝光区域排布的光刻机曝光信息；根据曝光区域信息以及光刻机曝光信息设定曝光区域规则，使有效Die最大化；利用曝光区域信息、光刻机曝光信息以及曝光区域规则本发明提供的智能化设定晶圆上曝光区域排布的方法，可以综合考虑到激光标记的尺寸、有效die最大化、平整度传感器的排布这三种情况，提前计算得到最优的曝光区域排布，在保证有效die最大化的同时，提前避免晶圆边缘离焦问题
一种晶圆上曝光区域排布方法