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[发明专利]曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法-CN201310184852.6无效
发明人：张鸿明 -专利权人：川宝科技股份有限公司
申请日： 2013-05-17 - 公布日： 2014-11-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光机曝光能量的校正方法及应用其的曝光方法，其可改善曝光机曝光能量的均匀性，本发明主要利用处理单元及多个光能量感测单元，之后使曝光机的多个曝光装置分别对这些光能量感测单元投光，并使处理单元记录这些曝光装置的投光能量，并计算出这些投光能量的最小值，接着使处理单元调整曝光机供电装置的供电量，以使这些曝光装置的投光能量的校正值相等且小于或等于该最小值。由此，本发明可改善曝光机曝光能量的均匀性进而提升电路板的制造合格率。
曝光能量校正方法应用

[实用新型]一种曝光机用曝光尺底片及曝光尺-CN202122253385.0有效
发明人：刘俊峰;黄德业;关志锋;李超谋 -专利权人：珠海杰赛科技有限公司;广州杰赛电子科技有限公司;广州杰赛科技股份有限公司
申请日： 2021-09-16 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及PCB制造技术领域，公开了一种曝光机用曝光尺底片及曝光尺。所述曝光机用曝光尺底片包括曝光尺底片，所述曝光尺底片上设有时间标示和机台标示。本实用新型的曝光机用曝光尺底片，将所需的时间和机台编号等相关信息制作到曝光机底片上，更方便生产人员对曝光尺需要的信息进行有效识别，在生产时操作人员能够两曝光机设定的MJ值与曝光尺格数一一对应，可以降低操作人员对技能经验的要求，解决因曝光尺所需信息不明确导致生产板报废的风险。
一种曝光底片

[发明专利]曝光机及曝光系统-CN201710279243.7在审
发明人：李凯波;张晨;胡超;王欢;崔家卿 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2017-04-25 - 公布日： 2017-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种曝光机及曝光系统，曝光机对涂布有感光材料的待曝光基板进行曝光。曝光机包括激发装置及发光装置。所述发光装置位于所述激发装置与所述待曝光基板之间。所述激发装置根据曝光图形向所述发光装置发射激发物质。所述发光装置在受到所述激发物质的激发下向所述待曝光基板发射光线，以对所述待曝光基板进行曝光。该曝光机及曝光系统无需采用掩膜版，而是在激发装置的激发下使得发光装置向待曝光基板发射光线从而实现曝光，并且只需要调节激发装置发射的激发物质的状态，即可根据不同的曝光图形对待曝光基板进行曝光，从而适用于各种不同类型的集成电路，避免了传统曝光工艺需要每次更换掩膜版的步骤，节约了成本而且降低了加工难度。
曝光系统

[发明专利]曝光机的曝光方法-CN200910148715.0有效
发明人：徐福润 -专利权人：景兴精密机械有限公司
申请日： 2009-06-30 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明曝光机的曝光方法，曝光机具有一曝光平台供承载被加工物及原稿，另于曝光平台上方处设有至少一光源组用以产生朝向曝光平台照射曝光光源，再以该光源组依照预设路径位移的方式，让曝光光源到达曝光平台的预定区域，而对曝光平台上的被加工物进行曝光显影；俾可大幅减少灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，降低设备成本，以及降低曝光机的聚热现象；尤其，光源组仅通过曝光平台需要被曝光光源照射的区域，因此不会浪费不必要的加工成本
曝光方法

[发明专利]光刻机控制系统以及控制方法-CN202110344764.2在审
发明人：马鹏川;吴卫军;杨元培 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-03-29 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光刻机控制系统以及控制方法，其中，所述光刻机控制系统包括：整机控制系统、曝光系统、移动台系统以及剂量曝光控制单元触发系统，所述整机控制系统规划曝光队列，并将曝光队列的参数信息下发至曝光系统和移动台系统；所述移动台系统根据曝光队列的参数信息移动到指定位置，并输出曝光信号至曝光系统；所述曝光系统根据曝光队列的参数信息完成曝光，并输出移动信号至移动台系统；所述剂量曝光控制单元触发系统用于曝光系统和移动台系统之间的信息交互采用所述光刻机控制系统能够实现曝光系统和移动台系统之间的信息直连互通，减少通讯时间，降低曝光的消耗时间，提高光刻机控制系统的产率，同时提高光刻机控制系统的可靠性。
光刻控制系统以及控制方法

[实用新型]一种应用于内层板的曝光系统-CN202020396711.6有效
发明人：张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2020-03-25 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供一种应用于内层板的曝光系统，其包括第一曝光机、翻板机和第二曝光机，所述第一曝光机和所述第二曝光机均包括基板台面和朝向所述基板台面的对位系统，其特征在于，所述第一曝光机和所述第二曝光机的基板台面的边缘设置有定位件，所述第一曝光机垂直于其对位系统的定位件于所述第二曝光机垂直于其对位系统的定位件镜像设置。通过定位件镜像的方式，无论所述内层板的尺寸如何变化，所述标记点与基板台面边缘的尺寸都是固定的，无需频繁的调整所述对位系统中对位相机的位置，减少对位时间，提高曝光效率。
一种应用于内层曝光系统

[发明专利]曝光机及其曝光方法-CN200910135831.9有效
发明人：吕金水;钟政学 -专利权人：翊晖科技股份有限公司
申请日： 2009-04-29 - 公布日： 2010-11-03 - 主分类号： G03B27/16 文献下载
摘要：本发明曝光机及其曝光方法，至少在其曝光室内部相对应于曝光平台移动行程上方或下方位置，产生一朝向曝光平台移动行程照射的条状光源；再配该曝光平台以预定速度与该条状光源相对位移的方式接受该条状光源的照射，进而使该曝光平台上的被加工物完成曝光显影；俾可大幅减少灯泡数量，相对缩减整体曝光机的体积，降低设备成本，以及降低曝光室的聚热现象；尤其，适合采用连续循环输送的方式，让曝光平台依序通过曝光室，藉以提升曝光机的加工产能。
曝光及其方法

[发明专利]一种曝光方法及其曝光装置-CN201811071348.4有效
发明人：倪伟 -专利权人：重庆惠科金渝光电科技有限公司;惠科股份有限公司
申请日： 2018-09-14 - 公布日： 2020-11-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光方法及其曝光装置，该曝光方法包括步骤：确认待曝光点在待曝光区域中的位置；进行待曝光点抓取，并确认待曝光点抓取成功；对应抓取成功的待曝光点调整光源至适配位置；曝光机完成曝光操作。本发明能够减少曝光机的工作的节拍时间和提升产出产品的对位精度。
一种曝光方法及其装置

[发明专利]扫描曝光机校准度检测方法-CN200710036530.1有效
发明人：杨金坡;车越;邹超 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-01-17 - 公布日： 2008-07-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种扫描曝光机校准度检测方法，包括下列步骤：选定作为标准的扫描曝光机，并调整所述的标准扫描曝光机的传输系统的精度；使用所述的标准扫描曝光机在晶片上定义出预定的标记图形，并经刻蚀工艺加工后在晶片上形成立体标记图形；用待测扫描曝光机模拟加工所述的刻有标记的晶片；根据所述的待测扫描曝光机输出的加工结果报告中的偏差值与预定的偏差允许范围判断待测扫描曝光机的校准度。本发明解决了多台扫描曝光机校准不一致时的检测问题。
扫描曝光校准检测方法

[发明专利]一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机-CN202211516147.7在审
发明人：周朝阳 -专利权人：深圳光迪科技有限公司
申请日： 2022-11-30 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光参数快速整定方法、系统及数字曝光机，方法包括：控制数字曝光机的曝光头投射图案处于静态全投射状态；以给定的初始曝光头光功率、初始曝光静态扫描速度对曝光头投射图案进行曝光尺标定曝光；根据曝光尺的标定曝光结果调节曝光静态扫描速度以获取满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度；根据曝光头光功率、曝光静态扫描速度，计算动态曝光下曝光头光功率对应的曝光持续时间以及曝光静态扫描速度，以及计算曝光头动态曝光下曝光静态扫描速度对应的曝光持续时间以及曝光头光功率。本方案通过获取静态全投射状态下满足曝光尺标定要求的曝光头光功率、曝光静态扫描速度，可以在感光膜曝光能量或曝光机激光器功率存在偏差的情况下使曝光头光功率、曝光持续时间、最大扫描速度得到快速准确整定。
一种曝光参数快速方法系统数字

[实用新型]文字网版曝光机-CN201821009853.1有效
发明人：陈锦华;丁明洋;张富治 -专利权人：惠州市大亚湾科翔科技电路板有限公司
申请日： 2018-06-28 - 公布日： 2019-02-26 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种文字网版曝光机，包括网版曝光机本体，所述曝光机本体包括曝光台面，所述曝光台面的边缘设置有遮蔽部，所述遮蔽部围合成一方形口部，形成曝光区，所述曝光区的面积以及形状与待曝光的网版的面积以及形状一致，还包括压板，所述压板用于压覆在待曝光的网版上。
网版曝光机本实用新型曝光区压板遮蔽边缘设置曝光台面形状一致曝光曝光台围合成口部压覆印刷清晰

[实用新型]一种曝光机及曝光系统-CN201120575159.8有效
发明人：王德帅;郭建;沈奇雨 -专利权人：北京京东方光电科技有限公司
申请日： 2011-12-31 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光机及曝光系统，用以降低曝光工艺的实现成本。所述曝光机包括：曝光本体，该曝光机还包括位于所述曝光本体上的四个挡板、活动部件和控制部件；其中，所述各挡板通过活动部件与所述曝光本体相连；所述控制部件按照预设的移动参数，控制所述活动部件带动所述挡板移动
一种曝光系统

[发明专利]激光直写光刻机和自动聚焦控制方法-CN202211633554.6在审
发明人：吴春晓;白跃 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光直写光刻机和自动聚焦控制方法，所述激光直写光刻机包括：曝光平台，用于承载待曝光基板；运动机构，运动机构与曝光平台连接；曝光光路机构，曝光光路机构包括成像物镜，曝光光路机构用于在曝光平台移动至曝光位置时对待曝光基板进行曝光处理；高度调节机构包括：高度采集模块，高度采集模块与曝光光路机构连接，用于采集曝光位置处待曝光基板的高度信息；高度调节模块，高度调节模块与成像物镜连接，用于驱动成像物镜沿第一方向移动；控制模块根据目标移动信息控制高度调节模块执行调节动作采用该激光直写光刻机可以对待曝光基板高度起伏进行实时补偿，解决了激光直写光刻机进行曝光时由于待曝光基板高度起伏产生离焦的问题。
激光光刻自动聚焦控制方法

[实用新型]具有掩模版清洁功能的曝光机-CN201120081548.5有效
发明人：秦颖;孙亮;孟春霞;郝昭慧;林承武 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2011-03-24 - 公布日： 2011-10-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及曝光机中清洁掩模版的技术领域，具体公开了一种具有掩模版清洁功能的曝光机。该具有掩模版清洁功能的曝光机包括：曝光机中输送掩模版的输送通道的上方和/或下方安装清洁装置。本实用新型提供的具有清洁功能的曝光机，通过在曝光机内部不同位置安装清洁装置的方法，可以有效去除掩模版表面和/或背面附着的异物，提高掩模版的清洁度，同时不影响曝光机腔室内部的气流分布。
具有模版清洁功能曝光

[实用新型]曝光聚焦补偿设备-CN201820858120.9有效
发明人：不公告发明人 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2018-06-05 - 公布日： 2018-12-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体集成电路制造技术领域，涉及一种曝光聚焦补偿设备，包括表面地形测量装置、聚焦测量装置与曝光机；曝光机包括曝光机座，以及与曝光机座上下对应设置的曝光单元；表面地形测量装置和聚焦测量装置均内置于所述曝光机中；表面地形测量装置用于测量得到晶圆表面地形图；聚焦测量装置用于测量得到晶圆表面各聚焦测量点的聚焦值及坐标；曝光机依据所述表面地形图对晶圆表面进行区域划分并根据各个区域聚焦测量点的聚焦值及坐标建立各个区域的曝光补偿模型，曝光单元根据各个区域的曝光补偿模型对晶圆表面的各个区域分别进行曝光处理。本实用新型提供的设备能提高曝光机进行光刻工艺时的聚焦准确性。
曝光机聚焦测量晶圆表面表面地形测量装置聚焦本实用新型补偿设备曝光补偿曝光单元半导体集成电路制造测量表面地形图聚焦准确性光刻工艺曝光处理上下对应曝光地形图