专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]数码曝光控制台(二)-CN200620045055.5无效
  • 徐金国;常志岗 - 上海多丽影像设备有限公司
  • 2006-08-23 - 2007-09-12 - G03B27/32
  • 一种彩扩数码曝光控制台,包括数码曝光装置、显示器、操作台和机架,由数码曝光装置、控制面板、电脑机箱、显示器、操作台与机架连接构成。数码曝光装置通过数码曝光装置安装架与机架连接;数码曝光装置安装架,其前端用铰链与观察门连接,其后端面与后盖连接后与机架连接,头罩与数码曝光装置安装架配合固定。本实用新型的优越功效是:使一台被淘汰的传统老式彩扩,通过安装本实用新型的数码曝光控制台改造成为一台先进行的数码彩扩,且不需要更改原有设备。
  • 数码曝光控制台
  • [实用新型]外层手动曝光-CN200920283487.3无效
  • 孙博 - 昆颖电子(昆山)有限公司
  • 2009-12-18 - 2010-11-10 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种外层手动曝光,包括曝光框架,曝光框架包括强化玻璃和贴覆其上的MYLAR膜,其特征在于:在MYLAR膜下设置有裸铜基板。本实用新型的外层手动曝光,在曝光框架的MYLAR膜下面设置一层裸铜基板,可大大降低外层手动曝光机工作过程中吸气不良的现象出现,节约人力、时间。
  • 外层手动曝光
  • [发明专利]超结MOS器件OPC掩模版制作方法及装置-CN202210453660.X在审
  • 黄执祥;王栋;侯广杰 - 深圳市龙图光电有限公司
  • 2022-04-27 - 2022-07-01 - G03F1/36
  • 本发明属于掩模版制作领域,尤其涉及一种超结MOS器件OPC掩模版制作方法及装置,其中,超结MOS器件OPC掩模版制作方法包括以下步骤:对掩模图形进行光学临近效应修正分析获得辅助图形;获得光刻可识别的主图曝光数据,获得所述光刻可识别的辅图曝光数据;将所述主图曝光数据和所述辅图曝光数据导入所述光刻;所述光刻机先根据所述主图曝光数据对掩模版坯料进行曝光,再根据所述辅图曝光数据对所述掩模版坯料进行曝光;对完成曝光之后的所述掩模版坯料依次进行显影
  • mos器件opc模版制作方法装置
  • [实用新型]具有温度调节功能的曝光-CN201120230225.8有效
  • 黄建 - 志圣科技(广州)有限公司
  • 2011-07-01 - 2012-01-18 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种具有温度调节功能的曝光,包括曝光机壳体,在曝光机壳体内设有曝光室,还包括有热交换室、换热器、温度传感器、控制电路、控制阀及风机,温度传感器位于曝光室内,且温度传感器及控制阀均与控制电路电气连接,曝光室与热交换室通过换气口相通而形成换热通道,风机设于换热风道内,换热器置于热交换室内,换热器的两端为换热工质进口及换热工质出口,换热工质进口与换热工质出口之间形成换热工质通路,控制阀设于换热工质通路上本实用新型可以有效的对曝光的温度进行调节,提高了曝光曝光精度。
  • 具有温度调节功能曝光
  • [实用新型]一种曝光-CN202020663233.0有效
  • 陈水波 - 广东柔印机械有限公司
  • 2020-04-27 - 2020-09-22 - G03F7/20
  • 本实用新型提供一种曝光,包括机架、放置平台和曝光平台,放置平台设置在机架上,曝光平台位于放置平台的上方,在机架与曝光平台之间设有升降机构,在机架与曝光平台之间设有导向升降机构,所述的导向升降机构包括齿轮和齿条,齿轮旋转的安装在机架上,齿条安装在曝光平台上,齿轮与齿条相啮合。该曝光的导向升降机构设有齿轮齿条结构,利用齿轮齿条的啮合导向作用,对曝光平台的升降具有导向作用,同时导向的稳定性好,可更好保护升降机构和曝光平台。
  • 一种曝光
  • [发明专利]一种曝光自动上下片装置-CN201911300564.6在审
  • 李国强 - 河源市众拓光电科技有限公司
  • 2019-12-17 - 2020-04-14 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种曝光自动上下片装置,包括传送机械手、第一装片卡槽、第二装片卡槽、自动对平边装置与曝光,所述传送机械手设置在所述曝光前端,所述第一装片卡槽设置在所述传送机械手左侧,所述自动对平装置设置在所述传送机械手与所述曝光之间,所述传送机械手适于将所述第一装片卡槽中的晶元输送至所述自动对平装置中,由所述自动对平边装置将晶圆输送至所述曝光中进行曝光,该曝光自动上下片装置取代了现有人工取片与放片的方式,有效避免人工取放晶元时出现误操作状况的发生
  • 一种曝光自动下片装置
  • [实用新型]一种曝光自动上下片装置-CN201922264745.X有效
  • 李国强 - 广州市艾佛光通科技有限公司
  • 2019-12-17 - 2020-11-17 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种曝光自动上下片装置,包括传送机械手、第一装片卡槽、第二装片卡槽、自动对平边装置与曝光,所述传送机械手设置在所述曝光前端,所述第一装片卡槽设置在所述传送机械手左侧,所述自动对平装置设置在所述传送机械手与所述曝光之间,所述传送机械手适于将所述第一装片卡槽中的晶元输送至所述自动对平装置中,由所述自动对平边装置将晶圆输送至所述曝光中进行曝光,该曝光自动上下片装置取代了现有人工取片与放片的方式,有效避免人工取放晶元时出现误操作状况的发生
  • 一种曝光自动下片装置
  • [发明专利]曝光装置、曝光方法和曝光-CN202110220327.X在审
  • 郝征;李志丹;唐世弋 - 上海微电子装备(集团)股份有限公司
  • 2021-02-26 - 2022-08-30 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种曝光装置、曝光方法和曝光。该曝光装置包括冷却台和至少一个光学检测单元;光学检测单元至少设置于冷却台的上下一侧,光学检测单元用于在冷却台对待冷却基板进行冷却时检测待冷却基板的表面。当光学检测单元检测到待冷却基板上无异物时,在待冷却基板进行冷却后被传输至曝光装置的曝光台,采用光罩在待冷却基板上形成图案化结构时,可以避免待冷却基板上的异物划伤光罩,提高了曝光装置的可靠性,同时减少了光罩的损耗,进而降低了曝光装置制作显示面板的成本。
  • 曝光装置方法

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