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- [发明专利]一种干膜生产用曝光机-CN202010747925.8在审
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卓金明
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苏州康迪科光电新材料有限公司
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2020-07-30
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2020-11-17
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G03F7/20
- 本发明公开了一种干膜生产用曝光机,涉及干膜生产设备技术领域,针对现有的曝光机散热性能不佳的问题,现提出如下方案,其包括壳体,所述壳体的内部依次开设有设备腔、曝光腔、蓄水腔、驱动腔和冷却腔,所述曝光腔的内部安装有多个曝光灯管,所述曝光灯管的上方设有横向设置的玻璃载台,所述玻璃载台固定在曝光腔的内部,所述设备腔底部的内壁固定有竖向设置的设备主体,所述壳体的顶部通过铰链分别铰接有两扇活动门。本发明可对曝光机运行时,产生的热量进行快速有效的吸收,且可加快曝光灯管的冷却速率,并且可简单方便的对曝光机的散热部件进行拆卸,冷却效率高,续航时间长,工作性能高,使用方便。
- 一种生产曝光
- [发明专利]一种电路板曝光方法及装置-CN201510591482.7有效
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罗郁新;汪伟明
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广州美维电子有限公司
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2015-09-16
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2018-12-07
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H05K3/00
- 本发明公开了一种电路板曝光方法及装置,方法包括以下步骤:利用曝光机中的光学识别元件识别设置于PCB板上的四个标靶位置,根据四个标靶位置计算出该PCB板的实际尺寸;从资料库中获取对应于该PCB板的标准尺寸,利用该PCB板的实际尺寸和标准尺寸计算出涨缩系数;在对应于该PCB板的预设的涨缩系数集合中获取与该涨缩系数对应的对象,根据该对象获取对应的平移表;根据平移表中的各个平移量数据分别对曝光机中对应的曝光区域进行平移,平移完成后控制曝光机对该PCB板进行曝光。本发明实现自动计算涨缩系数,从而选择对应的曝光资料对每个曝光区域进行调整再进行曝光,有效提高外层曝光对位能力。
- 一种电路板曝光方法装置
- [实用新型]紫外LED曝光机-CN201320560814.1有效
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张方德;王玉璋;贺兴志;李小明
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浙江欧视达科技有限公司
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2013-09-11
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2014-01-29
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G03F7/20
- 本实用新型提供一种紫外LED曝光机,其包括光源安装台面和曝光台面,光源安装台面与曝光台面构成平移配合,光源安装台面上设有紫外LED曝光机光学曝光照明系统,紫外LED曝光机光学曝光照明系统包括至少一个光源安装板、准直透镜以及曝光照明矩阵排布器,光源安装板上依次排列多行等距排列的紫外LED光源,相邻两行同一列的紫外LED光源的中心距离为B等于每行相邻两颗紫外LED光源的中心之间的距离A/行数,相邻两颗紫外LED光源之间等距排列,本实用新型以提高曝光均匀度及降低光源发散角度为前提,避免由于光学曝光照明系统辐照度不均匀,导致线条粗细不均匀,整块板上的分辨力不一致,或有断线等现象的发生。
- 紫外led曝光
- [实用新型]一种双台面直写式曝光机的曝光系统-CN201620831924.0有效
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2016-08-02
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2017-01-04
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G03F7/20
- 本实用新型属于直写式曝光机的技术领域,具体涉及一种双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法;解决的技术问题为:提供一种结构稳定、曝光效率较高的双台面直写式曝光机的曝光系统;采用的技术方案为:包括支撑板,支撑板通过支撑柱设置于双台面上方支撑板上设有挖空部,挖空部的两侧分别设置有两根线性导轨,两根线性导轨上设有光路安装板,光路安装板通过驱动机构可在两条线性导轨上作步进运动,步进运动的方向垂直于双台面运动的方向,光路安装板上设有用于发射曝光光束的光路镜筒,光路镜筒的曝光方向朝向所述双台面;本实用新型适用于PCB板曝光领域。
- 一种台面直写式曝光系统
- [发明专利]曝光条件确定系统-CN03107481.2无效
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中江彰宏
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三菱电机株式会社
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2003-03-19
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2004-01-14
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H01L21/027
- 在曝光条件确定系统100的数据库10中,储存有关先前进行的曝光工序的信息,包含掩模信息11、曝光机信息12、光刻胶工艺信息13、先前的曝光条件信息14。曝光条件确定部分15根据从数据库10抽出的各种信息及新掩模信息20,按照曝光条件确定程序,确定适合于新掩模的曝光条件,并输出其结果即新掩模的曝光条件21。通过模拟部分16模拟的结果,在曝光条件确定部分15中确定新掩模的曝光条件21时使用。该曝光条件计算系统不需要繁杂的曝光条件确认作业,就能够获得适合于每台曝光机的个体差异的曝光条件。
- 曝光条件确定系统
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