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[发明专利]光照射装置及具备其的曝光装置-CN202180035420.1在审
发明人：松本弘;井上智彦;山下健一 -专利权人：凤凰电机公司
申请日： 2021-05-13 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明提供一种能够以简便的结构实施光取向处理的曝光装置用的光照射装置。光照射装置(10)由具有多个LED(16)的光源(12)、和接受来自光源(12)的光(L)并使所透过的光(L)照射于工件(X)的偏振元件(14)构成。而且，设定为各LED(16)的光轴(CL)相对于工件(X)具有第一角度(θ1)，且设定为从各LED(16)放射的光(L)的配光角的一半即第二角度(θ2)比第一角度(θ1)小。而且，通过使向LED(16)输入的电力变化来调整向工件(X)或曝光面(A)的光的照度或累计光量。
照射装置具备曝光

[发明专利]蚀刻设备及感光蚀刻工艺-CN202310166332.6在审
发明人：李鹏威 -专利权人：许昌速鸿机械有限公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： C23F1/08 文献下载
摘要：本公开涉及蚀刻加工技术领域，提供一种蚀刻设备及感光蚀刻工艺；包括：烘干箱、感光箱和蚀刻箱，蚀刻箱包括第一电机、第二电机、离心管和工件安装轴；蚀刻箱底部形成有容纳槽；离心管的第一端设置有吸水装置，吸水装置浸没在容纳槽的蚀刻液中，离心管的第二端与第一电机传动连接，离心管的侧壁上分布有多个洒液孔，第一电机转动时离心管内的蚀刻液由洒液孔流出洒向安装在工件安装轴上的工件；第二电机与第一电机相邻设置，第二电机与工件安装轴传动连接。该蚀刻设备，能够避免破坏工件内部结构，防止内应力的产生，保证工件的强度；另外，通过采用紫外线进行曝光处理，能够有效提升曝光的分辨率，简化工艺，降低成本，提高生产效率。
蚀刻设备感光工艺

[发明专利]一种接近接触式光刻真空曝光工件台装置-CN202010984908.6在审
发明人：龚健文;胡松;于军胜;赵立新;杨勇;杜婧 -专利权人：中国科学院光电技术研究所;电子科技大学
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2020-11-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种接近接触式光刻真空曝光工件台装置，该装置用于光刻机中实现基片与掩模板之间实现真空曝光。然后第二升降驱动机构带动真空腔室上升并与掩模架下表面接触形成密封腔体，接着对腔体进行抽真空，从而实现样片与掩模板在真空的环境下进行曝光，提高曝光的分辨率与曝光线条的均匀性。
一种接近接触光刻真空曝光工件装置

[实用新型]一种接近接触式光刻真空曝光工件台装置-CN202022053235.0有效
发明人：龚健文;胡松;于军胜;赵立新;杨勇;杜婧 -专利权人：中国科学院光电技术研究所;电子科技大学
申请日： 2020-09-18 - 公布日： 2021-05-14 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种接近接触式光刻真空曝光工件台装置，该装置用于光刻机中实现基片与掩模板之间实现真空曝光。然后第二升降驱动机构带动真空腔室上升并与掩模架下表面接触形成密封腔体，接着对腔体进行抽真空，从而实现样片与掩模板在真空的环境下进行曝光，提高曝光的分辨率与曝光线条的均匀性。
一种接近接触光刻真空曝光工件装置

[发明专利]光掩模设备、光掩模制造方法和掩模图案形成方法-CN200510002593.6无效
发明人：上田正则;松永治幸 -专利权人：富士通株式会社
申请日： 2005-01-21 - 公布日： 2006-02-15 - 主分类号： H05K3/06 文献下载
摘要：通过曝光、显影和蚀刻，在所述掩模的表面上形成正/负颠倒的图案。在工件的要形成图案的部分上涂覆不透光层和抗蚀剂。使用可通过连接器进行更换的掩模来进行曝光。将掩模的图案转印到抗蚀剂上，并显影所述抗蚀剂。在显影所述抗蚀剂以后，通过蚀刻，在工件的表面上形成掩模图案。
光掩模设备制造方法图案形成

[发明专利]机械制造的对准基准方法和对准系统-CN201480023770.6有效
发明人： T.桑德斯特罗姆 -专利权人：麦克罗尼克迈达塔有限责任公司
申请日： 2014-03-11 - 公布日： 2017-10-20 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：特别地，本公开的技术涉及通过物理修改工件上的曝光或辐射敏感材料层的外观而产生对准标记，然后使用这些对准标记或这些标记的转印的正像或反向像在曝光写入通过之间再次对准写入坐标系，随后在写入系统内物理移动工件
机械制造对准基准方法系统

[发明专利]一种测量晶圆表面平整度的方法及装置-CN200810037396.1有效
发明人：毛方林 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2008-05-14 - 公布日： 2008-10-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种测量晶圆表面平整度的方法及装置，借助曝光装置中工件台垂向定位装置的冗余性，测量晶圆表面不同位置处形貌值，通过多项式拟合计算获取晶圆面任意点平整度。本发明直接基于光刻曝光装置在线测量完成，操作简便，易于实施。
一种测量表面平整方法装置

[发明专利]带边缘曝光保护的工件台-CN200910046830.7有效
发明人：周清华 -专利权人：上海微电子装备有限公司;上海微高精密机械工程有限公司
申请日： 2009-02-27 - 公布日： 2009-07-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种用于硅片曝光工艺的带边缘曝光保护的工件台，包括：托盘，其中所述硅片置于所述托盘上；保护环，其中所述保护环的内直径小于所述硅片直径，且所述保护环置于所述托盘边缘上方；驱动定位装置，推动所述保护环移动
边缘曝光保护工件

[发明专利]防撞装置、工件台及曝光装置-CN201711244615.9有效
发明人：丛国栋;张志钢;李志龙;刘屈武 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-11-30 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种防撞装置、工件台及曝光装置，所述防撞装置安装在工件台的边缘，可以节省工件台内部的大量空间；所述滚轮套接在所述转轴组件外，所述滚轮能够相对所述工件台转动，当工件台失控时，由于防撞装置安装在工件台的边缘，保证了发生碰撞的部件始终是防撞装置，防撞装置中的滚轮可以转动，以吸收碰撞能量，避免损伤工件台内的精密部件，并且所述防撞装置占用空间小、重量轻，也可实现对任意方向碰撞的防撞。
装置工件曝光

[发明专利]一种光发射电子束曝光机-CN202210805413.1在审
发明人：李西军 -专利权人：西湖大学
申请日： 2022-07-08 - 公布日： 2022-09-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本公开实施例提出一种光发射电子束曝光机，光发射电子束曝光机，其特征在于，包括控制装置、激光光源、电光调制器、光电发射探针、电子镜筒以及电驱动工件台。本公开实施例通过采用光电效应发射电子束替代传统热场发射电子束，在这种新的电子束发生技术下，采用电光调制器调制激发光电子的激光束得到曝光需要的电子脉冲，改变现有电子束曝光机的电子镜筒中电磁透镜组和扫描技术，确保电子束聚焦和电子束扫描定位的精度；本申请披露的光电发生电子束曝光机的图形发生器频率理论上可以达到50GHz‑100GHz，其曝光效率可以比现有电子束曝光机高500‑1000倍，相较于现有技术能够有效提升研究和研发的效率
一种发射电子束曝光

[实用新型]一种恒温曝光机-CN201820592523.3有效
发明人：曾旭 -专利权人：宁波东顺电子科技有限公司;宁波东盛集成电路元件有限公司
申请日： 2018-04-24 - 公布日： 2018-11-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种恒温曝光机，包括：进料口、工作台、曝光室、控制室、曝光灯、灯罩、冷却管、循环水系统、支撑架、电机、导轨、微处理器、控制面板、进气装置、排气装置和温度传感器，进料口位于曝光室的前端，工作台通过滑轨滑动安装在进料口的位置，曝光灯阵列分布在灯罩内，灯罩背面安装有冷却管，冷却管通过软管与循环水系统相连接，灯罩背面中央与支撑架的一端固定连接，支撑架的另一端与电机固定连接，电机与导轨滚动连接，微处理器和循环水系统安装在控制室内，曝光室外侧固定安装有控制面板，曝光室内壁上还分别安装有进气装置排气装置和温度传感器，本实用新型可以有效控制工件表面温度，提高生产效率，减少残次品。
灯罩循环水系统进料口冷却管曝光室支撑架本实用新型温度传感器微处理器进气装置控制面板排气装置曝光灯曝光机工作台导轨电机背面安装电机固定工件表面滚动连接滑轨滑动生产效率有效控制阵列分布软管残次品控制室室内壁背面室内曝光

[实用新型]一种压着效果好的压着曝光机-CN201721239492.5有效
发明人：冯巍 -专利权人：保定易隆光伏科技有限公司
申请日： 2017-09-26 - 公布日： 2018-04-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种压着效果好的压着曝光机，包括曝光机本体，所述曝光机本体两侧的顶部均固定连接有连接板，所述连接板远离曝光机本体的一侧通过连接机构固定连接有支撑板，所述支撑板的顶部焊接有顶箱，所述顶箱内壁背面的顶部固定连接电机本实用新型通过设置顶箱、电机、转盘、椭圆槽、传动杆、移动杆、立杆、滑套、光杆、第一连接块、第一连杆、第二连杆、第二连接块、升降杆和压着板的配合使用，解决了现有的压着曝光机压着效果差的问题，该压着效果好的压着曝光机，具备压着效果好的优点，可以防止使用者在使用时工件出现晃动现象，需要重新曝光，从而节省了使用者的大量时间。
一种效果曝光

[发明专利]投影曝光装置-CN201410020574.5有效
发明人：周畅;徐兵 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-01-16 - 公布日： 2018-02-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影曝光装置，包括照明系统、承载掩模的掩模台、投影物镜以及承载基板的工件台，所述照明系统产生照明光束照射所述掩模，所述投影物镜将所述掩模上的图案投影到所述基板表面，其特征在于，还包括调焦调平装置本发明既可以极大提高曝光设备生产效率、降低设备使用成本；又通过一次曝光即可得到更大尺寸的屏幕，从而减小由于拼接曝光所带来的复杂工艺及制造成本上升；同时利用同步扫描技术、像传感器技术及曝光过程焦面实时控制技术，极大地提高投影曝光装置套刻精度及成像质量，满足低成本，高产量的生产需要。
投影曝光装置

[实用新型]一种激光旋转成像设备-CN202222333834.7有效
发明人：陈乃奇;金满军;张向非 -专利权人：深圳市先地图像科技有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例中的激光旋转成像设备可包括：旋转台、激光集成器以及控制器；所述旋转台上设有曝光面，所述旋转台与所述激光集成器绕中心轴可相对旋转；所述激光集成器中包含基板、微透镜阵列以及固定在所述基板上的多颗半导体激光芯片形成的激光阵列；在旋转过程中，所述激光阵列中每颗半导体激光芯片的激光对应的光斑投影点在所述曝光面上的扫描圆环轨迹不重叠；所述控制器用于检测各颗光斑投影点的实时位置，当半导体发光器芯片对应的光斑投影点实时位置与加工件上像素曝光点的位置一致时，点亮对应的半导体激光芯片对曝光面上像素曝光点进行曝光。
一种激光旋转成像设备

[发明专利]曝光装置以及曝光方法-CN201480047009.6有效
发明人：松冈尚弥 -专利权人：株式会社村田制作所
申请日： 2014-08-18 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了在掩膜尺寸较大的情况下也能适当地矫正掩膜的弯曲，能以高精度进行曝光的曝光装置以及曝光方法。本发明涉及的曝光装置(1)包括光源(100)；设置有掩膜图案的光学板(11)；以及保持光学板(11)，在光学板(11)的光源(100)一侧形成气密空间(12)的掩膜支架(13)。来自光源(100)的光照射至光学板(11)，使掩膜图案曝光在工件(10)上。倾斜为规定的角度的倾斜机构(21)，在利用倾斜机构(21)使掩膜支架(13)倾斜了规定的角度的状态下，利用压力调整机构(20)调整气密空间(12)内的压力之后，使掩膜支架(13)恢复至原先的角度，进行曝光
曝光装置以及方法