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[发明专利]一种掩膜条分类设备和掩膜条分类方法-CN202011409683.8在审
发明人：沈志昇;骆丽兵 -专利权人：福建华佳彩有限公司
申请日： 2020-12-04 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： B07C5/34 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜条分类技术领域，特别涉及一种掩膜条分类设备和掩膜条分类方法，包括机架和移动机构，机架上设有掩膜载台，移动机构位于掩膜载台上方，掩膜载台靠近移动机构的一侧面上放置有掩膜条包装盒，掩膜条包装盒中放置有两个以上的金属掩膜条，相邻两个金属掩膜条之间设有无尘纸，通过在移动机构靠近掩膜载台的一侧面上连接有两个以上的吸附机构，机架一侧面的相对两端上分别设置掩膜条张力机构，在移动机构靠近掩膜载台的一侧面设置开孔量测机构，这样降低金属掩膜条张网收缩力对金属掩膜框的受力形变
一种掩膜条分类设备方法

[发明专利]半导体结构及其形成方法-CN202110289168.9在审
发明人：曹凯 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-03-18 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： H01L21/8242 文献下载
摘要：一种半导体结构及其形成方法，所述形成方法包括：提供基底；在基底上形成第一介质层后，在第一介质层上形成若干折线形的第一掩膜图案，第一掩膜图案沿第一方向延伸；在第一掩膜图案上形成若干折线形的第二掩膜图案，第二掩膜图案沿第二方向延伸，第二方向与第一方向不同，第一掩膜图案与第二掩膜图案在第一介质层的投影交叠呈多边形；以第二掩膜图案和第一掩膜图案为掩膜刻蚀第一介质层形成开口。通过第一掩膜图案和第二掩膜图案的配合定义出多边形的形状，以第一掩膜图案和第二掩膜图案为掩膜刻蚀第一介质层形成开口，可以改善刻蚀负载效应造成的刻蚀均匀性问题。
半导体结构及其形成方法

[发明专利]改善硬掩膜刻蚀后均匀性的方法-CN202210702730.0在审
发明人：谢磊;何志斌;夏禹 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-06-21 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/28 文献下载
摘要：本发明提供一种改善硬掩膜刻蚀后均匀性的方法，提供衬底，衬底上形成有自下而上依次叠加的第二氧化层、栅极、第一至三硬掩膜层；通过光刻和刻蚀打开第三硬掩膜层及其下方的第二、一硬掩膜层，使得部分栅极裸露，之后去除光刻胶层及抗反射涂层；以栅极相对于第二、三硬掩膜层的高选择比，刻蚀裸露的栅极形成凹槽，使得部分第一硬掩膜层上的第三硬掩膜层去除；以栅极相对于第三硬掩膜层的低选择比、第三硬掩膜层相对于第二硬掩膜层的高选择比，刻蚀第三硬掩膜层、第二硬掩膜层，使得剩余的第三硬掩膜层全部去除。本发明通过改变硬掩膜层的结构,并优化栅极刻蚀步骤中的选择比,改善了残留的硬掩膜层的负载差异。
改善硬掩膜刻蚀均匀方法

[发明专利]新型蒸镀掩膜板张紧方法-CN201410161454.7有效
发明人：赵芳;魏锋;任海 -专利权人：四川虹视显示技术有限公司
申请日： 2014-04-22 - 公布日： 2014-07-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型蒸镀掩膜板张紧方法，第一步、设置掩膜板框架；第二步、在掩膜板框架的纵向上设置纵向骨架，并且张紧，然后焊接；第三步、在掩膜板框架的横向上设置横向骨架，并且张紧，然后焊接；第四步、将子掩膜板安装在铺设好横纵向骨架的掩膜板框架上，并且张紧，然后焊接；第五步、重复第四步，一直到形成一张完成的郑镀掩膜板。本发明具有以下优点：若其中一张子掩膜板上的像素出现问题，可以只将这张子掩膜板撕下来报废后，重新焊接一张新的子掩膜板，这样可以大大降低掩膜板的报废率；在掩膜板焊接之前，掩膜板框架上需要焊接细小的纵横交替的金属骨架，来支撑掩膜板，这样就避免出现因掩膜板下垂而造成的像素变形问题。
新型蒸镀掩膜板张紧方法

[发明专利]掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板-CN201810454366.4有效
发明人：韩冰;王徐亮;张玄;甘帅燕;高峰 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种主掩膜板、配合掩膜板及掩膜组件，该掩膜组件包括具有蒸镀区的主掩膜板，具有配合区的配合掩膜板，主掩膜板的有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，配合掩膜板的第一配合区内布设有第一配合开口，第一配合开口在配合掩膜板上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板上的正投影，且配合掩膜板的第二配合区遮挡主掩膜板无效蒸镀区内的无效蒸镀开口。上述掩膜组件中，主掩膜板上在异形的有效蒸镀区外开设无效蒸镀开口，可以平均有效蒸镀区边缘的应力，防止有效蒸镀区边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。同时，可以通过配合掩膜板上的第二配合区遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口，制得具有开槽区的异形显示面板。
掩膜板蒸镀配合开口掩膜组件配合区正投影遮挡褶皱受力不均显示面板异形显示开槽区显示区良率掩膜异形

[发明专利]无定形碳处理方法及采用无定形碳作为硬掩膜的刻蚀方法-CN201110296996.1有效
发明人：邓浩;张彬 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2011-09-27 - 公布日： 2013-04-03 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：一种作为硬掩膜的无定形碳的处理方法，包括：提供硬掩膜层，材质为无定形碳；图案化硬掩膜层；对图案化硬掩膜层进行硼离子注入。本发明还一种采用无定形碳作为硬掩膜的刻蚀方法，包括：提供半导体衬底，其上形成有对准标记及衬底图案，且最上层为待刻蚀层；在待刻蚀层上淀积硬掩膜层，硬掩膜层材质为无定形碳；通过无定形碳探测对准标记，使得掩膜版上的图案和衬底图案对准；图案化硬掩膜层；对图案化硬掩膜层进行硼离子注入，形成新的图案化硬掩膜层；以新的图案化硬掩膜层为掩膜，刻蚀待刻蚀层。采用本发明的技术方案，可以克服现有的采用无定形碳作为硬掩膜进行刻蚀时，掺硼剂量范围有限及去除该硬掩膜层时工艺要求较高的问题。
无定形碳处理方法采用作为硬掩膜刻蚀

[发明专利]金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法-CN201710452420.7有效
发明人：吴建鹏;丁渭渭;杨忠英;罗昶 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2017-06-15 - 公布日： 2019-05-03 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明属于显示技术领域，具体涉及一种金属掩膜板的设计方法、金属掩膜板的制备方法。该金属掩膜板的设计方法包括步骤：根据所述金属掩膜板在使用时的拉伸力、以及所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变属性，分别计算所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量；根据所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变量，以与形变量相同、但形变趋势相反的方式补偿所述金属掩膜板在互相垂直的两个方向上的形变。该方法通过计算金属掩膜板的张网收缩率，从而获得金属掩膜板制作时需要的补偿量，进而在金属掩膜板设计时进行补偿，在金属掩膜板的设计初期就考虑金属掩膜板的形变量，设计包含了补偿量的金属掩膜板，降低金属掩膜板的工艺成本
金属掩膜板设计方法制备

[发明专利]半导体结构的制备方法和半导体结构-CN202110213894.2有效
发明人：吕游;杨蕾 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-02-25 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本公开提供了一种半导体结构的制备方法和半导体结构，该制备方法包括：于衬底上形成第一图案层，第一图案层包括位于阵列区域上的第一图形和位于外围区域上的第二图形；于第一图案层上形成掩膜材料层，掩膜材料层包括位于外围区域上的第一掩膜材料层、位于边缘区域上的第二掩膜材料层及位于中心区域上的第三掩膜材料层，第二掩膜材料层大于第一掩膜材料层的厚度；确定边缘区域的位置及第二掩膜材料层和第三掩膜材料层的厚度差；根据边缘区域的位置和厚度差，修正第二掩膜材料层的厚度，修正后的第二掩膜材料层和第三掩膜材料层的厚度差位于目标厚度差的范围内；图案化修正后的掩膜材料层形成掩膜层，根据掩膜层图案化第一图案层，形成第二图案层。
半导体结构制备方法

[实用新型]涂胶装置-CN202022697916.0有效
发明人：诸嘉豪 -专利权人：无锡迪思微电子有限公司
申请日： 2020-11-19 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： B05C11/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种涂胶装置，该涂胶装置包括甩干机，甩干机包括甩干机本体和掩膜版架，掩膜版架位于甩干机本体的表面上，掩膜版架用于固定掩膜版。该涂胶装置，包括甩干机，甩干机包括甩干机本体和掩膜版架，掩膜版架位于甩干机本体的表面上，掩膜版架用于固定掩膜版。相比现有技术中的涂胶装置仅为可控制转速和运行时间的直流电机，只具有甩干功能，本申请的涂胶装置在具备甩干功能的同时，通过将掩膜版放置在掩膜版架上，来固定掩膜版，可以使得掩膜版表面的光刻胶在甩干过程中变得较为均匀，保证光刻胶能较为均匀地覆盖掩膜版，避免了现有的涂胶装置无法使得掩膜版均匀涂布光刻胶的问题，保证了掩膜版的涂布光刻胶的效果较好。
涂胶装置

[实用新型]一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件-CN202122224788.2有效
发明人：钱超;杨柯;吴建 -专利权人：常州高光半导体材料有限公司
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提出的一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件，涉及蒸镀掩膜领域。该支撑掩膜版上具有若干上下贯通的蒸镀孔，蒸镀孔呈矩形阵列的形式排列；所述的蒸镀孔的上口处设置有凹槽，该凹槽从蒸镀孔的上口边缘向蒸镀孔的外围扩展；凹槽的宽度为d1，蒸镀孔的上口宽度为d2，1mm≤d1‑d2所述的支撑掩膜组件包括上述支撑掩膜版和掩膜框架，支撑掩膜版设置在掩膜框架的上侧。所述的蒸镀掩膜部件包括上述的支撑掩膜组件和精细金属掩膜版，精细金属掩膜版设置在支撑掩膜版的上侧。
一种支撑掩膜版组件蒸镀掩膜部件

[实用新型]掩膜版-CN202120399484.7有效
发明人：黄建维;夏忠平;王嘉鸿;陶丹丹 -专利权人：福建省晋华集成电路有限公司
申请日： 2021-02-23 - 公布日： 2021-12-14 - 主分类号： G03F1/42 文献下载
摘要：本公开提供一种掩膜版，包括多组掩膜图形，以及位于所述掩膜版边缘和相邻两组所述掩膜图形之间的对准标记单元；其中，每组所述掩膜图形用于不同膜层的光刻工艺。所述对准标记可同时实现掩膜版形状的校正和掩膜版的对准，优化各膜层图案之间的套刻误差。
掩膜版

[发明专利]减少制造成本的组合掩膜版-CN201410844370.3在审
发明人：樊茂;王希铭 -专利权人：展讯通信（上海）有限公司
申请日： 2014-12-30 - 公布日： 2016-07-27 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本发明涉及电子技术领域，具体涉及一种组合掩膜版。减少制造成本的组合掩膜版，包括，第一掩膜版，用于在一复合结构中形成第一薄膜层；第二掩膜版，用于在复合结构中形成第二薄膜层；第三掩膜版，用于形成连接第一薄膜层与第二薄膜层之间的通孔；第四掩膜版，用于在复合结构中形成第三薄膜层；本发明第一掩膜版的第一光掩膜图形、第二掩膜版的第二光掩膜图形、第四掩膜版的第四光掩膜图形叠加后的重合区域形成第五光掩模图形，第五光掩膜图形用于在复合结构中形成连接第二薄膜层与第三薄膜层的通孔，本发明可以减少通孔对应的掩膜版的数量
减少制造成本组合掩膜版

[发明专利]掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法-CN202111273654.8在审
发明人：王洋清;杨雪鑫;陈芸;童俊海;庄珍珍;黄骏;周晖;岳彬;张千 -专利权人：福州京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-10-29 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜板组件、紫外处理用掩膜板及其制备方法。掩膜板组件包括：第一掩膜板、第二掩膜板和第三掩膜板；每个掩膜板包括图案区和位于图案区周围的周边遮光区，周边遮光区用于与显示面板的边框区对应；图案区包括用于与显示面板的有效显示区对应的第一图案区、以及与位于有效显示区周围的虚设像素区对应的第二图案区；第一掩膜板的第一透光区、第二掩膜板的第二透光区和第三掩膜板的第三透光区，分布在所属掩膜板的第一图案区和第二图案区中。本申请实施例的掩膜板组件能够用于在显示面板的有效显示区和虚设像素区制备色阻，也能够用于制备紫外处理用掩膜板，扩大了掩膜板组件的应用场景。
掩膜板组件紫外处理用掩膜板及其制备方法

[发明专利]掩膜版组件及掩膜版、蒸镀边界确认及蒸镀偏位校正方法-CN202111668671.1在审
发明人：周丽芳;董耀龙;李文星;韩冰;钱先锐 -专利权人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请涉及一种掩膜版组件及掩膜版、蒸镀偏位校正方法。掩膜版组件包括：多个第一掩膜版。第一掩膜版包括：第一本体以及设置于第一本体上的掩膜开口和边界标识开口。其中，掩膜开口用于制备有机材料图案。边界标识开口位于掩膜开口的边界外侧，用于制备边界标识。边界标识用于确定有机材料图案的边界。不同第一掩膜版中的掩膜开口相对于第一本体的位置相同，不同第一掩膜版中的边界标识开口相对于掩膜开口的位置不同。上述的掩膜版组件及掩膜版、蒸镀偏位校正方法，可以改善有机共通层蒸镀边界及蒸镀偏差难以有效界定的问题，从而提高AMOLED产品的工艺可靠性及生产良率。
掩膜版组件边界确认蒸镀偏位校正方法

[发明专利]一种掩膜板制作方法及掩膜板-CN202210252156.3在审
发明人：王云升 -专利权人：深圳市柯宝原科技有限公司
申请日： 2022-03-15 - 公布日： 2023-07-21 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板制作方法及采用该方法制作形成的掩膜板，所述掩膜板制作方法包括：对作为掩膜的不锈钢片进行张网；对所述不锈钢片进行激光切割，形成需要的掩膜通孔图案；将切割好的不锈钢片焊接到掩膜板框上，去除多余部分获得掩膜板半成品；取另一不锈钢片制作保护片，对所述掩膜板半成品进行保护并打磨通孔边沿，清洗获得最终的掩膜板。由于本申请提供的掩膜板制作方法，采用打磨的方式去除了通孔边沿的毛刺等缺陷，提高了掩膜板的制造良率。本申请提供的掩膜板由于采用上述方法制作形成，避免了掩膜板通孔边沿毛刺等缺陷，因此能够提高掩膜板的质量和OLED蒸镀质量。
一种掩膜板制作方法