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[发明专利]掩膜板及其制造方法-CN201810450851.4在审
发明人：单为健;王亚玲;罗志忠;黄俊杰 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2018-05-11 - 公布日： 2018-09-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板及其制造方法，掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；第一掩膜条和第二掩膜条相互交错；第一掩膜条、第二掩膜条以及掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，蒸镀调整结构设置在第一掩膜条上和/或第二掩膜条上。上述掩膜板，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程。
蒸镀掩膜条调整结构掩膜板掩膜间隔排布设置蒸镀材料屏体围合单元形状遮挡区域沉积遮挡交错切割制造便利覆盖

[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680083276.8有效
发明人：西田光志;岸本克彥 -专利权人：鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供一种在蒸镀材料蒸镀后，可以统一且以确实短的时间执行蒸镀掩膜的分离的蒸镀方法、蒸镀掩膜及蒸镀装置。包括：形成蒸镀掩膜(1)的步骤(S1)，所述蒸镀掩膜(1)具有至少一部分由强磁性体构成的金属层(金属支承层)；磁化金属层的步骤(S2)，通过对蒸镀掩膜(1)的金属层施加电磁场来磁化金属层；吸附步骤(S3)，被蒸镀基板(2)与蒸镀掩膜(1)的位置对准后，使电磁石(3)中间夹住被蒸镀基板(2)吸附蒸镀掩膜(1)；堆积步骤(S4)，在蒸镀掩膜(1)的对置侧配置蒸镀源(5)，从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料，在被蒸镀基板(2)上堆积蒸镀材料；以及分离步骤(S5)，通过使电磁石(3)产生排斥蒸镀掩膜(1)的磁场，从蒸镀掩膜(1)分离电磁石(3)及被蒸镀基板(2)。
蒸镀掩膜装置方法有机 el 显示装置制造

[发明专利]蒸镀装置、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680083566.2有效
发明人：西田光志;矢野耕三;岸本克彥;崎尾进 -专利权人：鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2016-07-22 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：提供蒸镀方法及及其蒸镀装置,在蒸镀蒸镀材料时,蒸镀掩膜与被蒸镀基板之间不会由于形成间隙而蒸镀的膜的图案不均匀,可以以正确的图案蒸镀。特征在于,蒸镀掩膜(1)在周缘部由框架(12)支撑往水平方向配置,其蒸镀掩膜(1)的上面侧重叠配置形成蒸镀膜的被蒸镀基板(2),蒸镀掩膜(1)的下方配置蒸镀源(5),从蒸镀源(5)蒸发蒸镀材料(51),由此在被蒸镀基板(2)形成蒸镀膜。蒸镀掩膜(1)的弯曲中心部的铅直方向上,从被蒸镀基板(2)的上面位置开始,以成为相当于根据蒸镀掩膜(1)的弯曲延伸后的蒸镀掩膜(1)的长度(沿着蒸镀掩膜的一边的剖面中的长度)之长度的方式,一边压入被蒸镀基板(2),一边进行蒸镀。
装置方法有机 el 显示装置制造

[实用新型]一种蒸镀用掩膜板和蒸镀掩膜结构-CN202021785843.4有效
发明人：王勇波;秦晓强 -专利权人：苏州清越光电科技股份有限公司
申请日： 2020-08-24 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：一种蒸镀用掩膜板和蒸镀掩膜结构，其中，所述蒸镀用掩膜板包括蒸镀区和包围所述蒸镀区的外围区，所述蒸镀用掩膜板的外围区中具有贯穿蒸镀用掩膜板部分厚度的引线遮盖槽。所述蒸镀用掩膜板能够避免在蒸镀的过程中对基板引线区造成短路。
一种蒸镀用掩膜板蒸镀掩膜结构

[发明专利]掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法-CN201810458187.8有效
发明人：周丽芳;刘明星;王徐亮 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2020-06-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法，该掩膜板包括掩膜基板和遮挡层，掩膜基板上设置有蒸镀区，蒸镀区包括有效蒸镀区和无效蒸镀区，有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，无效蒸镀区至少与显示面板的开槽区对应，且有效蒸镀区和无效蒸镀区内均分布有多个蒸镀开口，遮挡层设置于掩膜基板表面并遮挡无效蒸镀区内的蒸镀开口。上述掩膜板用于蒸镀显示面板，其中对于掩膜基板而言，不仅使有效蒸镀区与异形屏的显示区对应，还通过无效蒸镀区补齐了有效蒸镀外的缺口，整个蒸镀区的边缘受力均匀，可以防止掩膜基板在张网时褶皱，进而防止最终成型的显示面板混色
掩膜板组件制作方法

[发明专利]掩膜组件、主掩膜板及配合掩膜板-CN201810454366.4有效
发明人：韩冰;王徐亮;张玄;甘帅燕;高峰 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-07-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种主掩膜板、配合掩膜板及掩膜组件，该掩膜组件包括具有蒸镀区的主掩膜板，具有配合区的配合掩膜板，主掩膜板的有效蒸镀区与显示面板的显示区对应，配合掩膜板的第一配合区内布设有第一配合开口，第一配合开口在配合掩膜板上的正投影完全覆盖有效蒸镀开口在配合掩膜板上的正投影，且配合掩膜板的第二配合区遮挡主掩膜板无效蒸镀区内的无效蒸镀开口。上述掩膜组件中，主掩膜板上在异形的有效蒸镀区外开设无效蒸镀开口，可以平均有效蒸镀区边缘的应力，防止有效蒸镀区边缘因为受力不均而产生褶皱，提高蒸镀良率。同时，可以通过配合掩膜板上的第二配合区遮挡无效蒸镀区内的无效蒸镀开口，制得具有开槽区的异形显示面板。
掩膜板蒸镀配合开口掩膜组件配合区正投影遮挡褶皱受力不均显示面板异形显示开槽区显示区良率掩膜异形

[发明专利]一种掩膜板、蒸镀方法以及蒸镀设备-CN202310816957.2在审
发明人：杨一新;卞曙光 -专利权人：季华实验室
申请日： 2023-07-04 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本公开涉及一种掩膜板、蒸镀方法以及蒸镀设备，掩膜板包括掩膜框架以及设置在掩膜框架上依次排列的多列掩膜片；通过掩膜板多列掩膜片的蒸镀图案，在基板上第一次蒸镀形成多列第一蒸镀图形；掩膜板与基板相对旋转180°后，通过掩膜板多列掩膜片的蒸镀图案，在各相邻列第一蒸镀图形之间，以及最后一列第一蒸镀图形远离其他列第一蒸镀图形一侧第二次蒸镀形成第二蒸镀图形；其中，相邻列掩膜片的蒸镀图案之间具有第一距离；第一距离大于等于蒸镀图案沿掩膜片排列方向的长度；第一距离小于掩膜片沿掩膜片排列方向的长度。本公开使基板上相邻蒸镀图案之间的距离减小，基板上蒸镀图案数量增加，进而提高了基板的利用率，还降低了掩膜板的制作成本。
一种掩膜板方法以及设备

[实用新型]蒸镀掩膜版-CN202223466638.3有效
发明人：殷璐;赵文炎 -专利权人：云谷（固安）科技有限公司
申请日： 2022-12-23 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种蒸镀掩膜版，用于对阵列基板执行蒸镀作业，阵列基板包括支撑结构，支撑结构用于在蒸镀掩膜版和阵列基板对位设置时支撑蒸镀掩膜版；蒸镀掩膜版包括掩膜版本体，掩膜版本体上设置有与阵列基板上的支撑结构对应的容置孔通过设置与支撑结构位置对应的容置孔，使得在蒸镀掩膜版与阵列基板对位时，支撑结构能够部分嵌入容置孔内，避免支撑结构仅有顶部与蒸镀掩膜版接触，可以有效增大所述支撑结构与所述蒸镀掩膜版的接触面积，降低所述支撑结构与所述蒸镀掩膜版接触位置处的压强，从而减少所述蒸镀掩膜版磨损的风险。
蒸镀掩膜版

[发明专利]蒸镀掩膜的制造装置以及制造方法-CN202110344384.9在审
发明人：山田哲行 -专利权人：株式会社日本显示器
申请日： 2021-03-30 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供品质稳定的蒸镀掩膜的制造装置及蒸镀掩膜的制造方法。并且提升作业者的作业效率。蒸镀掩膜的制造装置，包括：设置结构体的工作台，所述结构体设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层；和从蒸镀掩膜将金属层剥离并进行卷绕的旋转辊。另外，蒸镀掩膜的制造方法包括：在设有蒸镀掩膜和与蒸镀掩膜相接的金属层的结构体中，一边用旋转辊卷绕金属层，一边使旋转辊沿着与结构体的一边大致平行的第1方向移动，从蒸镀掩膜将金属层剥离。
蒸镀掩膜制造装置以及方法

[发明专利]掩膜板及掩膜组件-CN201910153400.9在审
发明人：李加伟 -专利权人：云谷(固安)科技有限公司
申请日： 2019-02-28 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请提供了一种掩膜板及掩膜组件。所述掩膜板包括第一蒸镀区域和第二蒸镀区域，所述第一蒸镀区域及所述第二蒸镀区域内分别设有多个蒸镀开口，所述第一蒸镀区域内蒸镀开口的密度大于所述第二蒸镀区域内蒸镀开口的密度，所述第一蒸镀区域的厚度大于所述第二蒸镀区域的厚度所述掩膜组件包括掩膜板框架、支撑条及至少一个所述掩膜板，所述支撑条固定设置在所述掩膜板框架上，至少一个所述掩膜板设置在所述支撑条上，且与所述掩膜板框架固定连接。
蒸镀掩膜板支撑条开口掩膜组件固定设置申请

[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法、蒸镀方法及有机EL显示装置的制造方法-CN201680084205.X有效
发明人：崎尾进;西田光志;岸本克彥 -专利权人：鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2016-07-27 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：提供能够提高蒸镀时的被蒸镀基板与蒸镀掩膜的开口周缘部之间的密合性、抑制膜模糊或蒸镀时的阴影发生、并进行高精细图案化的蒸镀掩膜、其制造方法及使用其蒸镀掩膜的蒸镀方法。蒸镀掩膜(1)包含具有在被蒸镀基板(2)上用以由蒸镀成膜形成薄膜图案的开口(12)图案的树脂膜(11)，其蒸镀掩膜(1)在树脂膜(11)的与被蒸镀基板(2)相接的面的、至少树脂膜(11)的开口(12)的周缘部上包括磁性金属膜(13a)，提高蒸镀时的被蒸镀基板(2)与蒸镀掩膜(1)的开口(12)的周缘部之间的密合性，抑制膜模糊或蒸镀时的阴影发生。
蒸镀掩膜制造方法有机 el 显示装置

[发明专利]一种蒸镀方法以及蒸镀系统-CN201710841989.2有效
发明人：石均 -专利权人：联想（北京）有限公司
申请日： 2017-09-18 - 公布日： 2019-10-29 - 主分类号： C23C14/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种蒸镀方法以及蒸镀系统，该蒸镀方法包括：提供一待蒸镀基板，所述待蒸镀基板具有第一表面，所述第一表面用于蒸镀像素图形，所述像素图形具有多个子像素；在所述待蒸镀基板朝向所述第一表面的一侧设置蒸镀模具，所述蒸镀模具包括相对设置的第一掩膜版以及第二掩膜版，所述第一掩膜版的掩膜图形与所述第二掩膜版的掩膜图形错位相对，以形成与所述子像素匹配的掩膜通孔；基于所述掩膜通孔，对所述待蒸镀基板进行蒸镀，在所述第一表面形成所述子像素本发明技术方案可以采用具有大开口尺寸的掩膜版制备小尺寸的子像素，降低了掩膜版的加工难度以及蒸镀前掩掩膜版与待蒸镀基板的对位精度，提高了子像素的蒸镀质量。
蒸镀掩膜版蒸镀基板第一表面子像素像素图形掩膜图形蒸镀系统通孔掩膜模具子像素匹配错位相对相对设置大开口对位像素制备加工

[发明专利]掩膜板和掩膜板的制造方法-CN201810548269.1有效
发明人：熊腾青;李如;乔永康;潘晟恺;刘杰;杨凯;于剑伟 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2018-05-31 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种掩膜板和掩膜板的制造方法，属于蒸镀技术领域。掩膜板包括：掩膜，掩膜包括掩膜基底以及设置在掩膜基底上的镀层，镀层的热膨胀系数大于掩膜基底的热膨胀系数；其中，掩膜在蒸镀温度下为平整状态，掩膜中的镀层在蒸镀温度下由凸起状态膨胀为平整状态。本发明通过在掩膜上形成热膨胀系数较大的镀层，且使掩膜在蒸镀温度下为平整状态，这样在常温下掩膜就会因为镀层的收缩而呈弯曲状态，将包括该掩膜的掩膜板设置在在蒸镀基板上时，掩膜的边缘不会与待蒸镀基板接触，避免了对待蒸镀基板的损伤解决了相关技术中掩膜板可能损伤待蒸镀基板的问题。达到了能够避免掩膜板损伤待蒸镀基板的效果。
掩膜板制造方法

[实用新型]一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件-CN202122224788.2有效
发明人：钱超;杨柯;吴建 -专利权人：常州高光半导体材料有限公司
申请日： 2021-09-14 - 公布日： 2022-01-21 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型提出的一种支撑掩膜版、支撑掩膜组件及蒸镀掩膜部件，涉及蒸镀掩膜领域。该支撑掩膜版上具有若干上下贯通的蒸镀孔，蒸镀孔呈矩形阵列的形式排列；所述的蒸镀孔的上口处设置有凹槽，该凹槽从蒸镀孔的上口边缘向蒸镀孔的外围扩展；凹槽的宽度为d1，蒸镀孔的上口宽度为d2，1mm≤d1‑d2所述的支撑掩膜组件包括上述支撑掩膜版和掩膜框架，支撑掩膜版设置在掩膜框架的上侧。所述的蒸镀掩膜部件包括上述的支撑掩膜组件和精细金属掩膜版，精细金属掩膜版设置在支撑掩膜版的上侧。本实用新型用于蒸镀时，能够避免在显示装置的显示区域边缘产生“混色”缺陷，有利于提高显示装置的蒸镀产出良率。
一种支撑掩膜版组件蒸镀掩膜部件

[发明专利]一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板-CN201610159061.1有效
发明人：嵇凤丽;梁逸南;白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请日： 2016-03-18 - 公布日： 2018-01-26 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供一种掩膜板框架模组、蒸镀方法、阵列基板，属于显示技术领域，其可解决现有的掩膜板框架模组中的蒸镀掩膜板的边缘不固定导致的在蒸镀时蒸镀掩膜板的边缘容易卷曲翘起，影响蒸镀效果的问题。本发明的掩膜板框架模组，包括框架、覆盖掩膜板和至少两个蒸镀掩膜板，蒸镀掩膜板依次设置在框架上，两个相邻的蒸镀掩膜板之间具有缝隙，在框架上与缝隙对应的位置设置有第一沟槽；第一沟槽包括第一沟槽焊接部和第一沟槽非焊接部；蒸镀掩膜板包括与第一沟槽焊接部对应的第一子蒸镀掩膜板和与第一沟槽非焊接部对应的第二子蒸镀掩膜板；第一子蒸镀掩膜板的边缘与第一沟槽焊接部的边缘重合。
一种掩膜板框架模组方法阵列

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