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- [发明专利]成膜系统以及成膜方法-CN202210121357.X在审
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康荣太;竹永裕一;李柱炯
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东京毅力科创株式会社
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2022-02-09
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2022-08-26
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H01L21/02
- 本发明提供一种使成膜结果的再现性提高的成膜系统以及成膜方法。该成膜系统包括用于在基板上成膜的成膜装置以及控制装置,上述控制装置具有:方案存储部,其用于存储规定了通过上述成膜装置进行的基板处理工序的步骤的方案；预测部,其使用自基于上述方案的上述基板处理工序的开始收集的上述成膜装置的日志信息,计算控制对象的自目标值的变动量的预测值，该控制对象表示在上述基板处理工序中包含的成膜工序中成膜的膜的膜厚或膜质；以及更新部,其在上述成膜工序之前,以接近上述控制对象的目标值的方式,根据上述预测值对上述方案进行更新
- 系统以及方法
- [发明专利]成膜方法及成膜装置-CN202080076110.X在审
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佐藤英儿;坂本仁志
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新烯科技有限公司
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2020-11-02
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2022-06-21
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C23C16/455
- 一种成膜方法，其是在成膜对象(1)上进行CVD膜(4)和ALD膜(5)的成膜的成膜方法。在进行ALD膜的成膜的ALD处理中，重复实施2次以上ALD循环，所述ALD循环包括：第一工序，其使配置有成膜对象的反应容器(20)充满经由第一供给管(100)导入的原料气体；第二工序，其在第一工序后将原料气体从反应容器排出在进行CVD膜的成膜的CVD处理中，至少实施1次ALD循环，且第二工序在使原料气体残留于反应容器的气相中的状态下结束。
- 方法装置
- [发明专利]成膜装置及成膜方法-CN202180027330.8在审
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坂爪崇宽
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信越化学工业株式会社
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2021-03-22
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2022-12-02
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H01L21/365
- 本发明是一种成膜装置，其至少具备：雾化部，其雾化原料溶液而产生雾；连接于所述雾化部、并输送含有所述雾的载气的配管；输送向含有所述雾的载气中混合、并以1种以上的气体为主成分的添加用流体的至少一根以上的配管；与成膜部连接、并输送将含有所述雾的载气和所述添加用流体混合后的混合雾流体的配管；连接部件，其连接输送含有所述雾的载气的配管、输送所述添加用流体的配管、以及输送所述混合雾流体的配管；以及成膜部，其对所述雾进行热处理而在基体上进行成膜，通过所述连接部件连接的、输送所述添加用流体的配管与输送所述混合雾流体的配管所成的角是120度以上。由此，提供一种能够应用成膜速度优异的雾化CVD法的成膜装置。
- 装置方法
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