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- [发明专利]基板处理装置-CN201810183440.3有效
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福岛讲平;冈部庸之
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东京毅力科创株式会社
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2018-03-06
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2023-10-20
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H01L21/67
- 本发明涉及能够控制面间均匀性的基板处理装置。基板处理装置具备：内管，其设置为能够容纳多张基板，并且具有第一开口部；外管，其包围所述内管；可动壁，其被设置为能够在所述内管内、或者所述内管与所述外管之间移动，并且具有第二开口部；气体供给单元，其向所述内管内供给处理气体；排气单元，其被设置于比所述可动壁靠外侧的位置，且经由所述第一开口部和所述第二开口部对被供给到所述内管内的所述处理气体进行排气；以及压力检测单元，其检测所述内管内的压力。
- 处理装置
- [发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN202111412037.1在审
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小畑雄治;冈部庸之
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东京毅力科创株式会社
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2021-11-25
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2022-06-10
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C23C16/455
- 本发明提供一种能够以高精度检测基板附近的压力的成膜装置以及成膜方法。根据本发明的一个方式的成膜装置具有:处理容器,其能够对内部进行减压；喷头,其用于向上述处理容器内供给气体,该喷头包括形成有多个气体孔的下部件、以及在与该下部件之间形成用于使上述气体扩散的扩散空间的上部件；载置台,其与上述喷头相对配置,并且在与上述喷头之间形成处理空间；升降机构,其用于使上述载置台进行升降；筒状部,其贯通上述喷头而与上述处理空间连通；以及压力传感器,其以气密的方式设于上述筒状部的内部,用于对上述处理空间的压力进行测定。
- 装置以及方法
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