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- [发明专利]一种制作硅透镜的方法-CN201910465649.3有效
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龚国华;张浩
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深圳通感微电子有限公司
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2019-05-30
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2021-06-15
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G02B3/00
- 本发明涉及一种制作硅透镜的方法，包括以下步骤：涂覆压印胶：在硅衬底上涂覆压印胶；压印：使用预先制备的纳米压印模具将所需形状尺寸的透镜结构图形复制到所述压印胶上，在所述硅衬底上形成与所述透镜结构图形相对应的三维聚合物结构；硅ICP干法刻蚀：在ICP刻蚀腔体内以预定的压印胶与硅的刻蚀比对压印步骤中所得到的硅衬底三维聚合物结构进行刻蚀，以将所述三维聚合物结构复制到所述硅衬底上，从而形成硅透镜阵列，适用于批量制作球面以及非球面的硅透镜及其硅透镜阵列，制作效率高，精度高，并且纳米压印模具可重复使用，大大降低了单个硅透镜的制作成本。
- 一种制作透镜方法
- [发明专利]一种连续制备高纯碳硅纳米材料的方法-CN202010074377.7有效
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不公告发明人
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金雪莉
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2020-01-22
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2021-08-10
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H01M4/36
- 本发明属于纳米材料技术领域，涉及一种连续制备高纯碳硅纳米材料的方法，包括如下步骤：(1)将烃类气体和含硅类气体输入到发热体中，在发热体内对含烃类气体和含硅类气体进行热分解，生成碳、硅离子和氢离子，所述发热体采用等离子体弧产生热能；(2)将分解出的碳、硅离子于发热体内生成高纯度碳硅复合或/和混合体纳米材料；(3)将生成的高纯碳硅复合或/和混合体纳米材料极速进入第一冷却容器,得到稳定成形纳米尺寸的高纯碳硅材料。本发明提供的连续制备高纯碳硅纳米材料的方法，实现了碳硅纳米材料的工业化制备，大幅度提高了碳硅纳米材料的纯度。
- 一种连续制备高纯纳米材料方法
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