专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]微机的制备方法-CN201510740434.X在审
  • 苗斌;李加东;吴东岷 - 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
  • 2015-11-03 - 2017-05-10 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种微机的制备方法,包括图形化硅片,在所述硅片的表面形成若干光刻胶掩膜;其中,若干光刻胶掩膜之间形成硅片的暴露区;在硅片的具有光刻胶掩膜的一侧沉积金属层;其中,金属层包括叠层设置的3nm~8nm厚的Ag层和8nm~12nm厚的Au层;将具有金属层和光刻胶掩膜的硅片浸入刻蚀液中,暴露区被刻蚀,形成微机。本发明通过调整金属层的组分和厚度、以及刻蚀液中各组分的含量,制备得到了具有毫米尺寸的微机,获得的微机还具有高深宽比以及垂直侧壁的特点。根据本发明的微机的制备方法,克服了现有技术中的微机的制备方法所存在的导热不均或是无法获得垂直侧壁的不足。
  • 微机器件制备方法
  • [发明专利]基于硅衬底氮化物的光学微机及其制备方法-CN201110441613.5无效
  • 王永进;朱洪波 - 南京邮电大学
  • 2011-12-26 - 2012-07-25 - B81B7/00
  • 本发明公开了一种基于硅衬底氮化物的光学微机及其制备方法,实现载体为硅衬底III族氮化物晶片,包括硅衬底层,以及设置在硅衬底层上的顶层氮化物器件层,硅衬底层具有硅结构;顶层悬空氮化物层具有光学器件结构以及微机驱动器结构;本发明还公开了一种基于硅衬底氮化物的光学微机的制备方法。本发明所设计的一种基于硅衬底氮化物的光学微机提供了一种小型化、高密度的微机光学器件,本发明所设计的制备方法能够有效减低由于残余应力造成的氮化物微纳米器件结构实现载体损伤问题。
  • 基于衬底氮化物光学微机器件及其制备方法
  • [发明专利]一种微机系统及其制备方法-CN201710182877.0有效
  • 李刚;胡维;庄瑞芬 - 苏州敏芯微电子技术股份有限公司
  • 2017-03-24 - 2018-12-07 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种微机系统及其制备方法,解决了现有技术中微机单元和集成电路之间引线较长,从而引入较多干扰信号的问题。其中,该方法包括:在微机芯片上制备环绕气体敏感单元的第一封装环和位于第一封装环内侧的气体敏感单元周围的第一电气连接点;在集成电路芯片上与第一封装环对应的位置和与第一电气连接点对应的位置分别制备第二封装环和作为电路层输入端的第二电气连接点;将微机芯片和集成电路芯片对置;其中,第一电气连接点、第二电气连接点形成电气对接,第一封装环和第二封装环形成密封对接;在微机芯片上开设由微机芯片、集成电路芯片、第一封装环和第二封装环所形成的空间的导气通孔
  • 一种微机系统及其制备方法

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