专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种合金的高能量密度焊接系统-CN202121766120.4有效
  • 王成勇;陈伟专;唐梓敏;丁峰 - 广东工业大学
  • 2021-07-30 - 2022-08-05 - B23K31/02
  • 本实用新型涉及合金焊接设备技术领域,尤其涉及一种合金的高能量密度焊接系统,包括第一平台和第二平台,包括冷却装置和压辊能沿着第一合金板与第二合金板的焊接移动路径同步移动;温度传感器能沿着第一合金板与第二合金板的焊接移动路径而移动;高能量密度装置的喷头指向第一合金板的焊接端与第二合金板的焊接端之间的位置并能移动;主机系统根据温度传感器测量的温度来控制冷却装置、压辊和高能量密度装置的喷头的工作状态,该系统能快速准确地升温和快速冷却合金焊接位以避免合金化的问题
  • 一种合金高能量密度焊接系统
  • [发明专利]一种硅薄膜及一种半导体器件的制造方法-CN201510179485.X在审
  • 肖天金;温振平;康俊龙 - 上海华力微电子有限公司
  • 2015-04-15 - 2015-07-22 - H01L21/02
  • 本发明提供一种硅薄膜及一种半导体器件的制造方法,所述硅薄膜的制造方法采用两步成膜工艺,第一步成膜阶段使用原子层沉积方式沉积晶粒较小和均匀性良好的第一硅层,第二步成膜阶段在第一硅层上沉积掺杂碳原子或氮原子的第二硅层,在第二硅层的晶格中掺杂碳原子或氮原子,可避免硅原子在第一硅层的硅晶粒上连续沉积,进而得到晶粒尺寸较小的硅薄膜。同时,所述半导体器件的制造方法,采用硅薄膜的制造方法获得较小晶粒尺寸的硅,以满足器件性能要求,尤其是较小晶粒尺寸的硅用作虚拟硅栅极后,可以在其去除后形成侧壁较为平整的沟槽,以改善后续金属栅的沉积形貌
  • 一种非晶硅薄膜半导体器件制造方法
  • [发明专利]一种合金的焊接工艺和块体合金-CN202110876015.4在审
  • 王成勇;陈伟专;唐梓敏;丁峰;甄铁城 - 广东工业大学
  • 2021-07-30 - 2021-11-09 - B23K20/00
  • 本发明涉及合金焊接技术领域,特别是涉及一种合金的焊接工艺和块体合金,该焊接工艺包括以下步骤,S1、清洁合金板的表面;使加热板的板面温度达到待焊接的合金的玻璃转变温度;S2、将两块清洁后的合金板分别叠放在S1处理后的加热板的两个相对面上;S3、压合前退出加热板以,在气氛保护下将板面叠合的两块合金板送入压合设备中热压合,制得焊接成型的合金板;S4、采用两块S3制得的焊接成型的合金板,将其重复S2~S3步骤,获得厚度增加的合金板,该合金的焊接工艺能在厚度方向上焊接成型块体合金,且该焊接工艺具有容易操作的优点。
  • 一种合金焊接工艺块体
  • [发明专利]一种用于大尺寸合金的电焊接成型方法和块体合金-CN202110893551.5在审
  • 王成勇;王相煜;唐梓敏;甄铁城;陈伟专 - 广东工业大学
  • 2021-08-04 - 2021-12-03 - B23K20/00
  • 本发明涉及合金连接技术领域,具体涉及一种用于大尺寸合金的放电焊接成型方法和电加热焊接成型方法,该放电焊接成型方法包括以下步骤,S1、采用第一合金和第二合金,在待焊接界面上加工出尖端微型结构;S2、使第一合金的待焊接界面与第二合金的待焊接界面相对并留有一定间距;S3、对所述第一合金和所述第二合金均施加磁场和连接放电系统;S4、开启放电系统,然后驱动所述第一合金与所述第二合金压合并施加压合压力,至第一合金与第二合金焊接成型,该放电焊接方法具有焊接速度快和焊接质量高的优点;该电加热焊接成型方法通过增加磁场控制以及辅助加热装置,提高了加热均匀度。
  • 一种用于尺寸合金焊接成型方法块体
  • [发明专利]一种产品的制备方法-CN202210079238.2在审
  • 陈建新;朱旭光;李文浩;许夕;郭彦峰 - 东莞市逸昊金属材料科技有限公司
  • 2022-01-24 - 2022-03-18 - B22F3/093
  • 本发明提供了一种针对形成能力差的合金产品的成型制备方法,包括:通过电弧熔炼将配制的合金熔炼成成份均匀的合金铸锭,然后通过真空感应甩带的方法将铸锭制成完全合金薄带,再通过真空气流磨将合金甩带制成粉体,再通过低温热压方法将粉体压制成产品粗坯,再通过超声震荡颗粒之间相互摩擦焊接将粉体焊接成一个整体,再通过超声震荡使过冷液相原子团产生共震,从而快速使焊接的块体体软化变为半固态,半固态在压力作用下,填充焊接形成块之间的缝隙的,得到完整致密的产品。本发明提供的方法可用于高强度、高弹性的小型零部件的制备,特别是非晶形成能力差的合金的制备。
  • 一种产品制备方法
  • [发明专利]硅薄膜太阳能电池及其制造方法-CN201610601867.1有效
  • 刘坤;姚文浩;邓文宇;陈树雷;王东阳;巴德纯 - 东北大学
  • 2016-07-28 - 2017-11-03 - H01L31/0216
  • 一种硅薄膜太阳能电池及其制造方法,所述硅薄膜太阳能电池由依次连接的柔性PET基片层、SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型硅层、p型缓冲层、i型硅层、n型硅层、第二电极TCO层和背反射层组成制备方法包括提供柔性PET基片层;在柔性PET基片层上依次沉积SiO2陷光层、第一电极TCO层、p型硅层、p型缓冲层、i型硅层、n型硅层、第二电极TCO层和背反射层。本发明的硅薄膜太阳能电池的光电转换效率达到10~14%,较现有的单节硅薄膜太阳能电池的光电转换效率提高了3~8%,并有效防止本征层i型硅层和n型硅层受到污染,适于大批量生产。
  • 非晶硅薄膜太阳能电池及其制造方法
  • [发明专利]一种合金网、其制备方法及其在污水处理中的应用-CN201911263058.4有效
  • 谢盛辉;解岳霖;林梓彬;曾燮榕 - 深圳大学
  • 2019-12-11 - 2021-08-13 - C22C45/02
  • 本发明涉及一种合金网、其制备方法及其在污水处理中的应用。一种合金网包括:合金网基底;以及固定在所述合金网基底表面的铁硼化合物颗粒。所述合金网的制备方法包括如下步骤:提供由铁粉及铁硼粉或纯硼粉制备的铁硼化合物颗粒,以及制作合金网基底;将所述铁硼化合物颗粒转移到所述合金网基底上,使得所述合金网基底的每单位面积上附着有预定数量的铁硼化合物颗粒;对所述合金网基底进行加热及加压处理,使得所述合金网基底表面的铁硼化合物颗粒镶嵌到合金网基底表面上。本发明制备的合金网具有良好的污水处理能力,污水的降解效率高,成本低廉且可回收再利用。
  • 一种合金制备方法及其污水处理中的应用
  • [发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、显示器件-CN202110935939.7有效
  • 邹富伟;魏悦;唐霞 - 成都京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2021-08-16 - 2023-07-25 - H01L21/336
  • 本发明提供一种薄膜晶体管及其制作方法、显示器件,该制作方法包括:形成栅极、有源层、源极和漏极的图形;有源层包括:源极接触区域、漏极接触区域和位于源极接触区域和漏极接触区域之间的沟道区域,源极接触区域和漏极接触区域包括:层叠设置的硅层和硅掺杂层,硅层和硅掺杂层通过对一硅薄膜的表面进行离子注入得到,其中,硅薄膜的被离子注入的上层膜层形成硅掺杂层,未被离子注入的下层膜层形成硅层;沟道区域包括硅层,沟道区域的硅层与源极接触区域和漏极接触区域的硅层相连本发明能够改善源漏电极和有源层之间的接触电阻,有利于硅薄膜晶体管的性能的提高。
  • 薄膜晶体管及其制作方法显示器件
  • [发明专利]一种激光辅助压轧大块合金的系统和方法-CN202010473130.2有效
  • 王成勇;唐梓敏;杨琮;郑李娟;杜策之;丁峰;陈伟专 - 广东工业大学
  • 2020-05-29 - 2023-01-13 - B21B1/02
  • 本发明涉及了一种激光辅助压轧大块合金的系统,包括压轧系统和激光系统。其中,压轧系统包括工作台和装夹压辊;两合金装夹于所述工作台和装夹压辊之间;所述装夹压辊通过驱动沿所述工作台的一方向滚转平行移动以压轧两合金形成大块合金;激光系统,其与所述压轧系统联动连接且位于所述压轧系统的上方本发明提供的激光辅助压轧大块合金的系统在合金的过冷液相区完成工作时,合金不会化,确保了压轧合金前后材料的晶态,合金的性能不会受到影响,克服了传统的焊接方法带来的材料性能下降的缺点;本发明还提供一种使用该激光辅助压轧大块合金的系统实现的激光辅助压轧大块合金的方法。
  • 一种激光辅助大块合金系统方法
  • [发明专利]一种合金抗菌表面及其制造方法-CN202110318507.1有效
  • 王成勇;杜策之;张涛 - 广东工业大学
  • 2021-03-25 - 2023-01-13 - B08B3/12
  • 本发明涉及医疗器械技术领域,特别是涉及一种合金抗菌表面的制造方法,其包括以下步骤,S1:对合金表面抛光;S2:用激光辐射S1抛光后的合金表面,诱导出合金微结构表面;S3:先用乙醇超声清洗S2制得的合金微结构表面,然后用去离子水对合金微结构表面进行清洗;S4:对S3清洗后的合金微结构表面依次进行硝酸银溶液处理,过氧化氢溶液处理,无菌去离子浸泡;S5:先用乙醇超声清洗S4处理后的合金微结构表面,然后用去离子水对合金微结构表面进行清洗,制得合金抗菌表面,该合金抗菌表面的制造方法能有效制出结构抗菌与化学成分抗菌复合的能稳定杀菌的合金抗菌表面。
  • 一种合金抗菌表面及其制造方法
  • [实用新型]背接触异质结太阳电池-CN201620043004.2有效
  • 包健;王栋良;舒欣;陈奕峰;杨阳;张学玲 - 常州天合光能有限公司
  • 2016-01-16 - 2016-11-23 - H01L31/072
  • 本实用新型公开了一种背接触异质结太阳电池,包括硅基体层,其特征在于:在硅基体层的前表面依次设置前表面场和减反层,在硅基体层的背表面设置本征硅钝化层,在本征硅钝化层上间隔地设置有P型硅层和N型硅层,P型硅层和N型硅层上分别设置有透明导电薄膜层,透明导电薄膜层上设置有电极,所述P型硅层的厚度为5‑20nm,宽度为100‑1000μm,N型硅层的厚度为5‑20nm,宽度为100‑1000μm,相邻的P型硅层的中心点与N型硅层的中心点间隔150‑3000μm,在所述P型硅层与N型硅层之间设置有绝缘隔离层。
  • 接触异质结太阳电池

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