专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种铜导电复合材料及其制备方法-CN202310591034.1在审
  • 洪涛;徐文明;潘翔;李成宇;程继贵 - 合肥工业大学
  • 2023-05-24 - 2023-08-29 - H01B1/02
  • 本发明公开了一种铜导电复合材料及其制备方法,所述复合材料为织构铜‑石墨烯复合材料与单晶铜‑石墨烯复合材料的复合结构。所述制备方法包括以下步骤:(1)将一定层数的织构铜‑石墨烯复合材料与一定层数的单晶铜‑石墨烯复合材料进行叠放,形成织构铜/石墨烯‑单晶铜/石墨烯的复合结构,其中,织构铜‑石墨烯复合材料与单晶铜‑石墨烯复合材料形状、厚度相同;(2)将步骤(1)中所述的复合结构叠一定层数置于热等静压装置中,将装置置于无氧环境中,随后将温度升至800℃,在一定压力下保温一段时间,即可到的所述铜导电复合材料。本发明制备的铜导电复合材料同时具有高强度和高电导性能。
  • 一种导电复合材料及其制备方法
  • [发明专利]研磨剂组合物-CN202110320824.7在审
  • 川原彰裕;内藤健治 - 山口精研工业株式会社
  • 2021-03-25 - 2021-10-12 - C09G1/02
  • 本发明提供研磨剂组合物,其在氧化物单晶材料基板的研磨中,能够抑制研磨时的载体鸣音,并且实现研磨后的研磨表面的平坦性的提高和研磨速度的提高。一种研磨剂组合物,其用于对钽酸锂单晶材料或铌酸锂单晶材料进行研磨加工,上述研磨剂组合物含有二氧化硅颗粒、水溶性高分子化合物和水,水溶性高分子化合物为至少将具有羧酸的单体和具有磺酸的单体作为必要单体的共聚物,源自具有羧酸的单体的结构单元与源自具有磺酸的单体的单元的摩尔比为95:5~5:95的范围,水溶性高分子化合物的重均分子量为1000~5000000。
  • 研磨剂组合
  • [发明专利]一种单层单晶石墨烯的制备方法-CN201711147438.2有效
  • 孙海斌;高延利;付灿;王其尚;许军旗;马竞瑶;申雨健 - 信阳师范学院
  • 2017-11-17 - 2020-02-04 - C01B32/186
  • 本发明提供一种单层单晶石墨烯的制备方法,包括以下步骤:将装有铜催化剂的半封闭石英试管放入管式炉中,装有固体碳源的称量瓶放入管式炉靠近进气口的一端,通入惰性气体;持续通入惰性气体,将铜催化剂加热升温至600℃~800℃,然后恒温保持30~120min;停止通入惰性气体,开始通入还原性气体,将铜催化剂加热升温至1000℃~1050℃,然后恒温保持60~120min,迅速降温,即可在铜催化剂表面得到单层单晶石墨烯本发明操作方便,简单易行,安全可靠,成本较低,可控性强,用于高端电子器件和集成电路,为实现单层单晶石墨烯的产业化道路提供了一种技术支持。
  • 一种单层晶石制备方法
  • [发明专利]一种高速硅光探测器-CN201310179786.3有效
  • 李冰 - 李冰
  • 2013-05-15 - 2018-08-28 - H01L31/101
  • 本发明公开了一种基于SiGe HBT(锗硅异质结双极性晶体管)的硅光探测器。在一个实施例中,硅光探测器包括一个埋入N型掺杂(NBL)与一个位于其上的近本征掺杂的P型区(Collector区),以及一个位于Collector区上的SiGe单晶层(基区)。所述SiGe单晶层为P掺杂。在另一个实施例中,在所述P型SiGe单晶层上方生长N型掺杂的多晶硅,类似于HBT中的发射极(emitter)。在其它实施例中,所述emitter层,由在P型SiGe单晶区上继续生长的N型SiGe单晶构成。
  • 一种高速硅基光探测器

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