专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光掩模-CN201880085631.4在审
  • 奥村哲人;宫地宏昭 - 凸版印刷株式会社
  • 2018-12-28 - 2020-08-21 - G03F1/70
  • 一种光掩模,通过多透镜的连接部(J1~J4)的扫描曝光而转印的光掩模的图案的线宽、以及通过多透镜的非连接部(L1~L3)的扫描曝光而转印的光掩模的图案的线宽中的至少一方是对设计线宽进行了修正的线宽,进行了修正的线宽是在扫描方向、以及与扫描方向正交的方向中的至少一个方向上阶段性地变化线宽,阶段性地变化线宽包含基于随机数的修正成分(R),随机数基于对正弦波进行了频率调制的波形,或者基于白噪声。
  • 光掩模
  • [发明专利]浅沟槽隔离台阶高度稳定性测量方法-CN201810768913.6有效
  • 王艳云;许箭 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2018-07-13 - 2021-01-29 - H01L21/66
  • 本发明公开了一种浅沟槽隔离台阶高度稳定性测量方法,包括:将离子注入层光掩模板图案转移到没有生长薄膜的晶圆上;设定为基准条件;制作2n片含有基底图形的晶圆,量取各台阶高度;将离子注入层光掩模板图案转移到含有浅沟槽基底的晶圆上,测得各图形线宽;计算出各高台高度变化对应线宽变化的比值;线性拟合比值,获得相关比值系数α;判断是否为基准曝光条件偏移;如果为基准曝光条件偏移导致的线宽变化,则重新校准基准曝光条件;如果基准曝光条件未发生偏移,则通过公式H=α*CD计算出相应台阶高度变化量。本发明用于在线监测浅沟槽隔离台阶高度的稳定性及其变化量,有效解改善了常规方法光学测量模型失真导致的光学误测量。
  • 沟槽隔离台阶高度稳定性测量方法

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