专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体装置-CN03106204.0有效
  • 林正浩 - 精工爱普生株式会社
  • 2003-02-21 - 2003-09-17 - H01L27/04
  • 该半导体装置包括:具有第一导电型的半导体衬底(10);第一三重势阱(20),其形成在半导体衬底上并包括具有第二导电型的第一势阱(22),以及在该第一势阱内形成的具有第一导电型的第二势阱(24);第二三重势阱(30),其形成在半导体衬底上并包括具有第二导电型的第三势阱(32),以及在该第三势阱内形成的具有第一导电型的第四势阱(34);在第二势阱形成的具有第二导电型的低压晶体管(100N);以及在第四势阱(34第一三重势阱的第一势阱(22)中的杂质浓度比第二三重势阱的第三势阱(32)的杂质浓度要高。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置-CN03106203.2有效
  • 林正浩 - 精工爱普生株式会社
  • 2003-02-21 - 2003-09-17 - H01L27/04
  • 该半导体装置包括具有第一导电型的半导体衬底(10);在半导体衬底(10)上形成的具有第二导电型的第一势阱(20);三重势阱(30),其形成在半导体衬底(10)上并包括具有第二导电型的第二势阱(32),以及在该第二势阱(32)内形成的具有第一导电型的第三势阱(34);在第一势阱(20)内形成的具有第一导电型低压晶体管(100P);在半导体衬底上形成的有第二导电型的低压晶体管(200N);在三重势阱(30)的第二势阱(32)处形成的具有第一导电型高压晶体管(400P);在三重势阱的第三势阱(34)处形成的具有第二导电型高压晶体管(300N)。第一势阱(20)中的杂质浓度比三重势阱(30)的第二势阱(32)的杂质浓度要高。
  • 半导体装置
  • [发明专利]半导体装置及其制造方法-CN03104707.6有效
  • 林正浩 - 精工爱普生株式会社
  • 2003-02-25 - 2003-09-24 - H01L27/04
  • 该半导体装置包括具有第一导电型的半导体衬底(10);在半导体衬底上形成的具有第二导电型的第一势阱(20);在第一势阱内形成的具有第一导电型的第二势阱(30);在第一势阱内形成的具有第二导电型的第三势阱(40);在第二势阱形成的具有第二导电型的低压晶体管(100NL);在第三势阱形成的具有第一导电型的低压晶体管(200PL);以及在第一势阱形成的具有第一导电型的高压晶体管(400PH)。第二势阱(30)及第三势阱(40)中的杂质浓度比第一势阱(20)中的杂质浓度高。
  • 半导体装置及其制造方法
  • [发明专利]大功率垂直外腔表面发射激光器-CN200610090854.9无效
  • 金起成 - 三星电子株式会社
  • 2006-06-26 - 2007-01-10 - H01S5/183
  • 本发明公开了一种改进的VECSEL装置,其中每个量子势阱层的增益在所提供的周期性增益结构中可以得到增加。垂直外腔表面发射激光器(VECSEL)装置包括:基板;底部DBR镜,形成在该基板上;多重量子势阱层,形成在底部DBR镜上,并且包括多个量子势阱层和第一和第二应变补偿层,分别形成在每个量子势阱层之上和之下,以逐步释放量子势阱层的应变;顶盖层,形成在该多重量子势阱层上;光泵,发射泵浦束到该顶盖层的表面上;和外腔反射镜,与底部DBR镜分隔并且面向底部DBR镜。
  • 大功率垂直表面发射激光器
  • [发明专利]一种可调控偏振发光模式的发光二极管-CN202211412638.7在审
  • 谢思扬;宋敏航;陶志阔 - 南京邮电大学
  • 2022-11-11 - 2023-05-12 - H01L33/02
  • 本发明公开了一种可调控偏振发光模式的发光二极管,依次连接的p型电极、第一p型半导体层、第二p型半导体层、第一InGaN势阱层、第一GaN势垒层、第二InGaN势阱层、第二GaN势垒层、第三InGaN势阱层、第三GaN势垒层、第四InGaN势阱层、第四GaN势垒层、n型半导体层、衬底层和n型电极,所述p型电极、n型电极与第一p型半导体层的长度相等,第二p型半导体层、第一InGaN势阱层、第一GaN势垒层、第二InGaN势阱层、第二GaN势垒层、第三InGaN势阱层、第三GaN势垒层、第四InGaN势阱层、第四GaN势垒层、n型半导体层与衬底层的长度相等。
  • 一种调控偏振发光模式发光二极管
  • [实用新型]一种高效激发的LED外延片及芯片-CN202222010051.5有效
  • 胡加辉;金从龙;贾钊 - 江西兆驰半导体有限公司
  • 2022-08-01 - 2022-12-13 - H01L33/04
  • 本实用新型公开了一种高效激发的LED外延片及芯片,涉及半导体器件技术领域,该外延片包括:依次设于衬底之上的缓冲层、截止层、欧姆接触层、N型半导体层、多量子阱层、P型半导体层与电流扩展层;多量子阱层包括层叠设置的X对第一势阱层与第一势垒层、Y对第二势阱层与第二势垒层及Z对第三势阱层与第三势垒层;第二势阱层的厚度为第一势阱层或第三势阱层的厚度的至少两倍,第二势垒层的厚度为第一势垒层或第三势垒层的厚度的至少两倍。本实用新型中,通过将势阱层与势垒层设置成不规则的厚度,电子受激发进行跃迁时不同动能的电子能够落入不同的势阱层内,能够解决现有技术中动能过高的电子跃迁较大而导致光电转化效率低下的技术问题。
  • 一种高效激发led外延芯片
  • [发明专利]一种自熄灭自恢复雪崩光电二极管-CN201410602125.1有效
  • 郭霞;李冲;刘巧莉;董建;刘白 - 北京工业大学
  • 2015-08-04 - 2015-07-29 - H01L31/107
  • 本发明包括有依次纵向层叠的n型层(102),电荷倍增区(103),p型层(104),衬底(106),其特征在于,还包括有p型层(104)和衬底(106)之间的空穴势阱形成层(105);实现空穴势阱有两种方法,一种是空穴势阱形成层(105)采用n型材料,当与p型层(104)形成pn结后,能带下移,使得p型层(104)的空穴位置能量最低,从而在p型层(104)中形成了空穴势阱;第二种方法是空穴势阱形成层(105)采用高出P型层(104)掺杂浓度2倍以上的p+型材料,在形成pp+结后,在空穴势阱形成层(105)中形成了空穴势阱
  • 一种熄灭恢复雪崩光电二极管

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