|
钻瓜专利网为您找到相关结果 5398630个,建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]光致抗蚀剂剥离方法-CN03809298.0无效
-
横井滋;胁屋和正;原口高之
-
东京应化工业株式会社
-
2003-04-25
-
2005-08-03
-
G03F7/42
- 本发明公开了一种光致抗蚀剂剥离方法,所述方法包括以下步骤:(I)在至少具有铜(Cu)配线和低电介质层的基板上设置光致抗蚀剂图案,以该光致抗蚀剂图案为掩模,选择性地蚀刻低电介质层的步骤;(II)使经过上述步骤(I)的基板接触臭氧水及/或过氧化氢水的步骤;以及(III)使经过上述步骤(II)的基板接触至少含有季铵氢氧化物的光致抗蚀剂用剥离液的步骤。根据本发明,能够提供一种光致抗蚀剂剥离方法,在双金属镶嵌法等在至少具有铜(Cu)配线和低电介质层的基板上形成微细图案的过程中,即使在不进行O2等离子去胶处理的处理过程中,也能够有效地剥离蚀刻后的光致抗蚀剂膜
- 光致抗蚀剂剥离方法
|