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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]检查光掩模的方法与系统、计算机可读取的存储介质-CN200810080528.9有效
发明人：黄良荣;段成龙 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2008-02-21 - 公布日： 2008-09-03 - 主分类号： G06F17/00 文献下载
摘要：一种检查光掩模的方法与系统、计算机可读取的存储介质，该检查光掩模的方法包括将来自一发光源的光导入一光掩模的一第一面，使得该光的至少一部分透过该光掩模传送。从该光透过该光掩模被传送且从该光掩模的一第二面可观察的部分检测一第一光掩模图像。通过将一曝光模拟模型应用于一光掩模设计而产生一第二光掩模图像。并判定该第一光掩模图像及该第二光掩模图像之间的一差异。本发明可用以检查光掩模的缺陷。
检查光掩模方法系统计算机读取存储介质

[发明专利]光掩模管理方法及其条形码辨识装置-CN200410092208.7无效
发明人：刘国忠;曾文瑞 -专利权人：力晶半导体股份有限公司
申请日： 2004-11-03 - 公布日： 2006-05-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光掩模管理方法及其条形码辨识装置，其中光掩模管理方法包括下述步骤：先准备一条形码辨识装置；并对一光掩模上的一光掩模条形码进行辨识，再将辨识数据传入光掩模管理系统后，产生一工艺光掩模盒条形码；接着在无尘室中，将光掩模从一光掩模保护盒换装入一工艺光掩模盒中，且将工艺光掩模盒条形码设于工艺光掩模盒之上；之后将工艺光掩模盒条形码数据扫描登录在曝光设备；最后，曝光设备利用此光掩模进行曝光。而条形码辨识装置包括：至少一用来夹持光掩模保护盒的夹持件；至少一架设于夹持件上方的读取头，以读取光掩模条形码；以及一第一光源提供第一光线射向光掩模保护盒，以提高读取头辨识度。
光掩模管理方法及其条形码辨识装置

[发明专利]光掩模微尘清除器及光掩模微尘清除程序-CN200410031738.0无效
发明人：林柏青;杨育正 -专利权人：力晶半导体股份有限公司
申请日： 2004-03-24 - 公布日： 2005-09-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光掩模微尘清除器及应用其的光掩模微尘清除程序。此光掩模微尘清除器置于一光掩模微尘检测器前方，且至少包括一喷气构件与一支撑构件，其中喷气构件可朝光掩模的表面喷气以清除微尘，且支撑构件用以支撑此喷气构件。另光掩模微尘清除程序在光掩模上检测到微尘后，启动置于光掩模微尘检测器前的光掩模微尘清除器，再令光掩模经过微尘清除器的喷气构件而送入光掩模微尘检测器中，以在检测前清除微尘。
光掩模微尘清除程序

[发明专利]在半导体器件上提供一致临界尺寸的光掩模及其制造方法-CN200610092790.6无效
发明人：李东根;崔成云;全灿旭;金炳局 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2006-06-14 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：一种校正半导体晶片中的临界尺寸(CD)的非一致性的方法，包括测量透射过或者反射自光掩模的多个区域中的光掩模的0级光。改变光掩模以均衡来自光掩模的0级光，使得晶片CD是一致的。可以通过例如在光掩模的后侧上形成相位光栅或者通过将遮蔽单元引入光掩模以改变光掩模的透射，来改变光掩模。
半导体器件提供一致临界尺寸光掩模及其制造方法

[发明专利]光掩模载台单元和包括该光掩模载台单元的光掩模储料器-CN202211691491.X在审
发明人：崔允豪;金承沅 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-27 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种对光掩模进行对准的光掩模载台单元，该光掩模载台单元包括：对准构件，用于对光掩模进行对准，以使光掩模定位在合适的位置；以及引导构件，用于支撑光掩模的边缘并将光掩模引导至适当的位置，其中对准构件沿对角线方向推动光掩模
光掩模载台单元包括光掩模储料器

[发明专利]光掩模版及其制作方法、图形化的方法-CN200710094458.8无效
发明人：肖德元;隋建国;刘永 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2007-12-13 - 公布日： 2009-06-17 - 主分类号： G03F1/00 文献下载
摘要：一种光掩模版制作方法，包括：将布局对准标记图案写入光掩模版上，形成掩模版对准标记图案；将布局半导体器件图案写入所述光掩模版上，形成与所述掩模版对准标记图案相邻的掩模版半导体器件图案。本发明还提供一种光掩模版和图形化的方法。本发明将掩模版半导体器件图案和掩模版对准标记图案做在同一光掩模版上，在晶圆半导体器件区域将光掩模版上掩模版半导体器件图案与之对准并曝光，在晶圆对准标记区域将光掩模版上的掩模版对准标记图案与之对准并曝光。简化了光刻步骤，节省了工艺时间及光掩模版材料。
模版及其制作方法图形方法

[发明专利]光掩模保护膜的安装方法和光掩模保护膜框架-CN201010182757.9无效
发明人：侯鑫 -专利权人：中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日： 2010-05-20 - 公布日： 2011-11-23 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种光掩模保护膜的安装方法，包括以下步骤：根据需要保护的光掩模图案的尺寸制作两个尺寸相同的第一框架和第二框架，第一框架和第二框架的材质为永磁体材料；将第一框架放置于光掩模基板的带有光掩模图案的一侧，第二框架放置于光掩模基板的另一侧，并与第一框架关于光掩模基板对称放置；使用胶使光掩模保护膜附着在第一框架上，其中，第一框架和第二框架间的磁力大于第一框架和光掩模保护膜所受重力之和的50倍。本发明还公开了一种光掩模保护膜框架。根据本发明的光掩模保护膜的安装方法和光掩模保护膜框架，不会在光掩模图案表面残留粘着框架所用的胶，可以有效提高为光掩模安装光掩模保护膜的效率，延长光掩模的使用寿命。
光掩模保护膜安装方法框架

[发明专利]光掩模的设计方法与半导体光刻制作工艺-CN201910110925.4有效
发明人：林晓江;张郁萱;曾立君 -专利权人：力晶积成电子制造股份有限公司
申请日： 2019-02-12 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G03F1/56 文献下载
摘要：本发明公开一种光掩模的设计方法与半导体光刻制作工艺，其中该光掩模的设计方法包括先计算初始光掩模的开口率是否小于25％，若是所述开口率小于25％，则变更所述初始光掩模的设计，使变更后的光掩模与所述初始光掩模设计为反相(reverse tone)且所述变更后的光掩模的开口率在75％以上。所述方法能解决光掩模热膨胀问题。
光掩模设计方法半导体光刻制作工艺

[发明专利]光掩模衬底容器单元、光掩模衬底运输及曝光方法-CN200710008399.8无效
发明人：佐野道明 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2007-01-29 - 公布日： 2007-08-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：根据本发明的光掩模衬底容器单元用于运输和/或存储光掩模衬底，并包括：壳体，所述壳体用于在其内容纳所述光掩模衬底；和保持部件，所述保持部件以预定倾斜角度的倾斜姿势保持所述光掩模衬底。相较于适于垂直保持光掩模衬底的纵向类型光掩模衬底容器单元，所述光掩模衬底容器单元可以在高度上减小。由此，根据本发明的光掩模衬底容器单元不仅可以便于光掩模衬底容器单元的运输/存储，而且也可以克服运输方法受到限制的缺点。
光掩模衬底容器单元运输曝光方法

[发明专利]光掩模、包括光掩模的层压体、光掩模制备方法、图案形成装置和图案形成方法-CN201680033745.5有效
发明人：孙镛久;李承宪 -专利权人：株式会社LG化学
申请日： 2016-07-28 - 公布日： 2020-12-15 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本说明书涉及一种光掩模、包括该光掩模的层压体、光掩模的制备方法、使用所述光掩模的图案形成装置和使用所述光掩模的图案形成方法。
光掩模包括层压制备方法图案形成装置

[发明专利]一种光掩模组件及光刻系统-CN202010863609.7在审
发明人：林锦鸿;蔡奇澄;贺遵火;孙亚东 -专利权人：泉芯集成电路制造（济南）有限公司
申请日： 2020-08-25 - 公布日： 2020-11-10 - 主分类号： G03F1/66 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种光掩模组件及光刻系统，光掩模组件包括透明容器以及透明容器内部设置的光掩模，透明容器用于在光掩模的曝光过程中为光掩模隔绝空气，透明容器中填充有超洁净水或超洁净空气，这样光掩模上无需形成覆膜，节省了在光掩模上形成覆膜所需要的工艺和成本，同时透明容器可以在曝光过程中为光掩模隔绝空气，以及空气中的粉尘，同时透明容器中的超洁净液体或超洁净气体可以对光掩模表面起到净化作用以及组织表面物质聚集的作用，因此可以降低光掩模表面的杂质堆积，减少光掩模的曝光缺陷。
一种模组光刻系统

[发明专利]光掩模传送支撑座及光掩模传送方法-CN03110166.6无效
发明人：林柏青 -专利权人：力晶半导体股份有限公司
申请日： 2003-04-15 - 公布日： 2004-10-20 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明提供一种光掩模传送支撑座(reticletransferring support)。该光掩模传送支撑座包括有一支撑基座用来容纳一光掩模，多个支撑点用来支撑该光掩模，以及多个固定架用来固定该光掩模。该各支撑点是由软性塑胶材质组成的椭圆形结构，并可调整位置避免在该光掩模背面造成刮痕。该各固定架内侧为一倾斜面，可在载入光掩模时自动固定该光掩模的位置。
光掩模传送支撑方法

[发明专利]用于光掩模的薄膜以及包括该薄膜的曝光装置-CN201710377476.0在审
发明人：宋伣在;申铉振 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2017-05-25 - 公布日： 2018-01-09 - 主分类号： G03F1/62 文献下载
摘要：提供用于光掩模的薄膜和包括用于光掩模的薄膜的曝光装置，用于光掩模的薄膜保护光掩模免受外部污染。用于光掩模的薄膜包括提供为与光掩模间隔开的薄膜膜部。薄膜膜部包括具有二维(2D)晶体结构的半导体。
用于光掩模薄膜以及包括曝光装置

[发明专利]用于制造光掩模的系统、方法和程序产品-CN202180047279.7在审
发明人： M·拉马丹;M·格林;Y·汉姆;克里斯托弗·J·普洛格勒 -专利权人：美商福昌公司
申请日： 2021-04-30 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： G03F1/32 文献下载
摘要：用于从所获得的与在晶片上显示缺陷的光掩模相关的图案信息构建光掩模的方法和系统。对图案信息进行空间域分析，使得可以生成校正光掩模结构并可以将其应用于光掩模布局。使用校正光掩模结构来构建光掩模。验证了光掩模的有效性。
用于制造光掩模系统方法程序产品

[发明专利]便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模-CN202211623777.4在审
发明人：田正洲;葛海鸣;包忍 -专利权人：广州新锐光掩模科技有限公司
申请日： 2022-12-16 - 公布日： 2023-05-02 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本申请提供一种便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移量的方法及光掩模，涉及光掩模的技术领域，其步骤如下：在光掩模表面设置标尺，标尺以光掩模表面设置的定位线为基准，标尺每格度数的量级为微米级；蒙贴光罩护膜于光掩模的表面；通过显微镜观测光罩护膜的边沿在标尺上的读数，得出光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量。通过设置标尺，利用光掩模上预先设置的标尺，对光罩护膜于光掩模表面蒙贴的位移量进行测量，只要借助显微镜辅助即可，无需使用标注差量测基台，降低了检测光罩护膜蒙贴位移量所需成本，进而降低了光掩模的整体成本。
便捷测量光掩模上光罩护膜蒙贴位移方法

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