[实用新型]在硬质材料上刻制图形的装置无效

专利信息
申请号: 92222126.X 申请日: 1992-05-22
公开(公告)号: CN2124798U 公开(公告)日: 1992-12-16
发明(设计)人: 袁树森 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所职工技术协会
主分类号: B24C1/00 分类号: B24C1/00
代理公司: 三友专利事务所 代理人: 周樱
地址: 1000*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种在硬质材料上刻制图形的装置,它在玻璃、人造大理石、陶瓷硬质材料上涂膜塑性胶膜,将摄影的掩膜板覆盖在塑性胶膜与硬质材料的重叠层上,曝光清洗之后,用高压空气和砂的混合气流通过喷射枪8形成高速旋转气流在已曝光、显影的硬质基材上往返移动形成图象,喷射枪8设风、砂双向进口端1、2,枪身18与喷嘴16通过固定套15螺纹连接,喷嘴中段设螺旋套管14。经过机加工雕刻产品逼真,具有立体感,提高工效数十倍。
搜索关键词: 硬质 材料 刻制 图形 装置
【主权项】:
1、一种在硬质材料上刻制图形的装置,在操作箱中设托板10,其上放置带有已摄影、曝光、显影掩膜板的硬质材料,利用高压喷射枪8对该经过感光处理的硬质材料进行机加工雕刻,其特征是:可移动喷射枪8设风、砂双向进口端1、2,枪身18、与喷咀16;枪身18与喷咀16通过固定套15螺纹连接,喷咀中段设螺旋套管14,枪身18与喷咀16之间设橡胶套17与枪身和喷咀紧配合,喷咀中段管壁与螺旋套管14紧配合。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院半导体研究所职工技术协会,未经中国科学院半导体研究所职工技术协会许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/92222126.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top