[实用新型]处理装置及半导体工艺设备

摘要

一种处理装置及半导体工艺设备，涉及半导体技术领域。该处理装置包括：静电卡盘、真空泵、控制器以及检测机构；检测机构包括检测管路、设置于检测管路上的第一压力检测计和第一阀门；静电卡盘上设有沿第一方向贯通的贯通孔，第一方向为待检测物和静电卡盘的排布方向；检测管路的一端和真空泵连接、另一端穿过贯通孔以吸附位于静电卡盘上的待检测物；第一压力检测计用于检测待检测物背面的压力值，控制器与第一压力检测计电连接用于根据压力值确定晶圆的吸附状态。该处理装置能够在静电吸附过程中检测待检测物的背面压力，从而检测待检测物的吸附状态。