[发明专利]半导体结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202310359658.0 申请日: 2023-04-06
公开(公告)号: CN116454092A 公开(公告)日: 2023-07-18
发明(设计)人: 籍亚男 申请(专利权)人: 苏州市奥视微科技有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/15;H01L33/00
代理公司: 华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 郭凤杰
地址: 215123 江苏省苏州市工业园区*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本申请涉及一种半导体结构及其制备方法,包括:外延层,所述外延层包括依次层叠设置的N型半导体层、发光层、P型半导体层;凹槽,位于所述外延层内,将所述外延层分为多个发光单元;隔离介质层,位于所述外延层上表面以及所述凹槽内壁;晶体管结构,位于所述凹槽内的所述隔离介质层上。在本申请中,将晶体管结构内嵌于发光单元间,使晶体管结构很好的与发光单元进行了结合,简化了工艺步骤,提高了工艺效率,增加了产能。
搜索关键词: 半导体 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州市奥视微科技有限公司,未经苏州市奥视微科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202310359658.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top