[发明专利]一种减少光反射损失的单晶硅片制绒方法在审
| 申请号： | 202310356239.1 | 申请日： | 2023-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN116463723A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 刘银生;李正亮;何泽南 | 申请（专利权）人： | 江苏润阳世纪光伏科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B29/06 | 分类号： | C30B29/06;C30B33/10 |
| 代理公司： | 南京鼎傲知识产权代理事务所(普通合伙) 32327 | 代理人： | 刘焕敏 |
| 地址： | 224000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了本发明公开一种减少光反射损失的单晶硅片制绒方法，包括：一、将氢氧化钾溶液与双氧水混合得溶液A对硅片清洗；二、将氢氧化钾溶液与制绒添加剂混合得溶液B，将硅片在溶液B中腐蚀形成金字塔绒面；三、将氢氧化钾溶液与双氧水混合得溶液C对硅片清洗；四、将氢氟酸与盐酸混合得到溶液D对硅片清洗；五、烘干；六、将硅片置于帝尔激光器，进行激光制绒；七、将氢氧化钾溶液与双氧水混合得溶液E对硅片清洗；八、将氢氟酸与盐酸混合得到溶液F对硅片清洗；九、烘干。该方法制备的单晶硅片绒面为覆盖着纳米级坑洞的金字塔单元，不仅具备了大金字塔与导电栅线接触好、焊接拉力高的优点，也具备了反射率低、短路电流高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 减少 反射 损失 单晶硅 片制绒 方法 | ||
【主权项】：
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