[发明专利]折射、反射、全反射缩聚镜有效
| 申请号： | 201010028057.4 | 申请日： | 2010-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN102122535A | 公开（公告）日： | 2011-07-13 |
| 发明（设计）人： | 王玄极 | 申请（专利权）人： | 成都易生玄科技有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/06 | 分类号： | G21K1/06 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610041 四川省*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明折射、反射、全反射缩聚镜，包括：光密介质、光疏介质、反射面，其特征在于：通过光疏介质和光密介质组成光线入射区，光密介质和光疏介质组成折射缩聚光线区，反射面组成反射区，光密介质和光疏介质组成全反射缩聚光线区；折射、反射、全反射缩聚镜分为“三层一面”，“三层”为：中心层为光密介质，中心层从上到下的横截面积由大变小，中间层为光疏介质，外层是光密介质，“一面”是“三层”之外的反射面；折射、反射、全反射缩聚镜的上表面是光线的入射面，折射、反射、全反射缩聚镜的下表面是光线的出射面；以部分光线经过反射面而损失部分能量为其主要损能特征。 | ||
| 搜索关键词： | 折射 反射 全反射 缩聚 | ||
【主权项】：
本发明折射、反射、全反射缩聚镜，包括：光密介质、光疏介质、反射面，其特征在于：通过光疏介质和光密介质组成光线入射区，光密介质和光疏介质组成折射缩聚光线区，反射面组成反射区，光密介质和光疏介质组成全反射缩聚光线区；折射、反射、全反射缩聚镜分为“三层一面”，“三层”为：中心层为光密介质，中心层从上到下的横截面积由大变小，中间层为光疏介质，外层是光密介质，“一面”是“三层”之外的反射面；折射、反射、全反射缩聚镜的上表面是光线的入射面，折射、反射、全反射缩聚镜的下表面是光线的出射面；光线从折射、反射、全反射缩聚镜的中心层光密介质的上表面以折射方式进入，在中心层光密介质内，光线的传输有三种情况，第一种情况是光线在中心层光密介质内的传输方向不变，光线从折射、反射、全反射缩聚镜的中心层光密介质的下表面以折射方式出去，第二种情况是光线在中心层光密介质与中间层光疏介质分界面的斜面上发生全反射，第三种情况是光线在中心层光密介质与中间层光疏介质分界面的斜面上发生折射，光线进入中间层光疏介质；光线在中间层光疏介质中有两种情况，第一种情况是光线在中间层光疏介质内的传输方向不变，光线从折射、反射、全反射缩聚镜的中间层光疏介质的下表面以折射方式出去，第二种情况是光线在中间层光疏介质与外层光密介质分界面的斜面上发生折射，光线进入外层光密介质，这部分光线通过反射区和全反射缩聚光线区相组合的方式对光线进行缩聚，光线从折射、反射、全反射缩聚镜的外层光密介质的下表面以折射方式出去，反射面会吸收部分光能，折射、反射、全反射缩聚镜主要以折射方式聚光；以部分光线经过反射面而损失部分能量为其主要损能特征。
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- 2013-03-06 - 2017-09-12 - G21K1/06
- 本发明涉及一种对于0°和25°之间的至少一个入射角具有大于40％的反射率的EUV波长范围的反射镜(1)，包含基板(S)和层布置，其中所述层布置包含至少一个非金属单独层(B,H,M)，以及其中所述非金属单独层(B,H,M)掺杂有介于10ppb至10％之间，尤其介于100ppb和0.1％之间的杂质原子，使得非金属单独层(B,H,M)获得大于6*1010cm‑3的电荷载流子密度和/或大于1*10‑3S/m的电导率，尤其是大于6*1013cm‑3的电荷载流子密度和/或大于1S/m的电导率。
- 具有聚焦偏转结构板的微分相位对比成像-201280017003.5
- E·勒斯尔;T·克勒 - 皇家飞利浦电子股份有限公司
- 2012-01-30 - 2017-08-11 - G21K1/06
- 本发明涉及X射线微分相位对比成像，尤其涉及用于X射线微分相位对比成像的偏转装置。为了提供剂量效率得到提高的微分相位对比成像，提供了一种用于X射线微分相位对比成像的偏转装置（28），包括偏转结构（41），其具有第一多个（44）第一区域（46）和第二多个（48）第二区域（50）。提供所述第一区域以改变X射线辐射的相位和/或振幅；并且其中，所述第二区域是X射线透明的。周期性地布置第一和第二区域，使得在横截面中，所述偏转结构具备布置为使得以形成于作为凸起（56）提供的第一区域之间的槽状凹部（54）的形式来提供所述第二区域的剖面。相邻凸起形成部分包封布置于其间的相应凹部的相应侧表面（58)。每个凹部的侧表面都在所述凹部的整个深度（62）上具有变化的距离（60）。
- X射线Schmidt物镜及基于X射线Schmidt物镜的光学系统-201610031258.7
- 徐捷;王新;穆宝忠;展琦 - 同济大学
- 2016-01-18 - 2017-07-28 - G21K1/06
- 本发明涉及一种X射线Schmidt物镜，包括彼此分离且正交的第一物镜组、第二物镜组及第三物镜组，第二物镜组位于第一物镜组与第三物镜组之间；第一物镜组与第三物镜组内的镜片均横向设置，同时镜片数相同，且对应镜片共面；第二物镜组内的镜片纵向设置，第一物镜组与第三物镜组内的镜片长度相等，均为第二物镜组内镜片长度的一半；第一物镜组的镜片前后端分别均匀的分布在以O1O1′为轴的两个圆柱面上；第二物镜组的镜片前后端分别均匀的分布在以O2O2′为轴的两个圆柱面上；轴O1O1′与轴O2O2′相互正交。与现有技术相比，本发明通过将一组镜片组分离，形成三物镜的结构，克服了传统Schmidt物镜子午、弧矢方向成像分辨率存在差异的问题，能有效改善成像质量。
- 照明光学单元-201280025144.1
- M.恩德里斯 - 卡尔蔡司SMT有限责任公司
- 2012-05-16 - 2017-07-21 - G21K1/06
- 一种用于EUV投射曝光设备的照明光学单元(4)，具有光阑(23)，光阑包括具有离散对称组的辐射透射区域。光阑(23)的形状适配于光瞳分面反射镜(18)的分面形状或辐射源(3)的形状。光阑(23)优选地布置在中间焦平面的区域中。
- 一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法-201610030914.1
- 付明磊;周寒青;乐孜纯 - 浙江工业大学
- 2016-01-18 - 2017-06-30 - G21K1/06
- 一种X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法，该优化方法以具有不同单元数量和面型结构的X射线组合折射透镜系列、入射X射线光子波长和期望焦距为输入设计参量，以X射线组合折射透镜的选择和排列结果为输出设计参量，以聚焦光学系统焦距作为第一优化条件，根据聚焦光学系统容差得到初步优化方案。本发明提供一种优化参数、提高性能、扩大应用范围的X射线组合折射透镜聚焦光学系统优化方法。
- 一种X射线光学系统及其制造方法-201510309934.8
- 程华奇;谭天乐;苏枫;杨光;郑建勇;龙华保 - 上海新跃仪表厂
- 2015-06-08 - 2017-06-09 - G21K1/06
- 本发明涉及一种X射线光学系统及其制造方法，通过设置多个平板；在每个平板上镀有反射膜，对入射的X射线进行反射并聚焦；使这些平板排列形成中心厚边缘薄的球体其中，各平板的第一端位于半径相同的同一圆弧上，各平板的第二端比第一端更靠近球体的圆心，且各平板的第一端到第二端的长度，随着各平板与光轴的夹角的增大而减小。并且，对光学系统中平板与光轴的夹角，圆弧半径，每个平板的长度，相邻平板夹角等参数进行设计，获得背景散射小、集光效率高、聚焦效果好，更适合X射线收集的光学系统。
- 专利分类
