[发明专利]一种电子半导体清洗剂及制法和用法在审

专利信息
申请号: 202310332114.5 申请日: 2023-03-31
公开(公告)号: CN116396813A 公开(公告)日: 2023-07-07
发明(设计)人: 吴懿 申请(专利权)人: 上海凯清贸易有限公司
主分类号: C11D7/26 分类号: C11D7/26;C11D7/36;C11D7/32;C11D7/50;C11D7/60
代理公司: 杭州合谱慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 33290 代理人: 唐燕
地址: 201100 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种电子半导体清洗剂,由如下重量百分比的原料组成:碳氢溶剂40%‑80%,氢氟醚溶剂20%‑60%。本发明还公开了上述清洗剂的制备方法以及上述清洗剂的使用方法。本发明将碳氢溶剂和氢氟醚溶剂按比例混合,其中的碳氢溶剂对各种油污松香、树脂有较强的清洗力,与氢氟醚混合后对电路板上低残留量的助焊剂具有更强的溶解力,清洗效果比单独使用碳氢溶剂更彻底,清洗后的工具表面离子污染物残留量极低,有利于封装处理。本发明的清洗剂挥发后无残留,对金属零件无腐蚀和损伤,与氢氟醚配合可以做到阻燃,极大的降低了火灾风险。
搜索关键词: 一种 电子 半导体 洗剂 制法 用法
【主权项】:
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