[实用新型]一种用于离子源的栅网装置有效
| 申请号： | 201420694914.8 | 申请日： | 2014-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN204289361U | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 佘鹏程;孙雪平;陈特超;彭立波;张赛;胡凡;陈庆广 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 马强 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于离子源的栅网装置，包括加速法兰和抑制法兰；所述加速法兰和抑制法兰内分别安装有加速栅网和抑制栅网；所述加速法兰设置在所述抑制法兰上方，且所述加速法兰通过连接杆与所述抑制法兰连接成一体结构；所述加速栅网的网格与所述抑制栅网的网格一一对应；所述抑制法兰圆周部分开设有用于将所述抑制法兰安装于离子源放电室上的安装孔。本实用新型可提高离子源装配一致性，从而提高离子源性能重复性和稳定性，最终能获得稳定的离子束刻蚀工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 离子源 装置 | ||
【主权项】：
一种用于离子源的栅网装置，包括加速法兰（1）和抑制法兰（3）；所述加速法兰（1）和抑制法兰（3）内分别安装有加速栅网（2）和抑制栅网（4）；其特征在于，所述加速法兰（1）设置在所述抑制法兰（3）上方，且所述加速法兰（1）通过连接杆（5）与所述抑制法兰（3）连接成一体结构；所述加速栅网（2）的网格与所述抑制栅网（4）的网格一一对应；所述抑制法兰（4）圆周部分开设有用于将所述抑制法兰（4）安装于离子源放电室上的安装孔（13）。
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- 现有考夫曼离子源，在真空镀膜时输出的离子束流受到阴极灯丝变化、工作气体扰动、真空室真空度变化等影响，比如随着阴极灯丝的热蒸发，阴极灯丝越烧越细导致输出离子束流逐渐减小，这时就需要人为调大阴极灯丝电压以保持束流的稳定。本发明设计了一种针对于离子束流变化的自动反馈调节电路，该电路采集输出束流的变化，将负反馈信号传递给阴极灯丝控制电路，当离子束流减弱时，适当增大阴极灯丝功率，而在离子束流增强时，适当减小阴极灯丝功率，从而使输出束流始终维持稳定。本发明的有益之处是，用自动反馈电路实时跟踪调整，使离子源输出束流保持稳定，从而使离子源辅助镀膜的光学薄膜结构稳定，改善光学薄膜的一致性和牢固度，也减少了镀膜过程中对离子源设备的人工干预。
- 离子布植方法与离子布植机-201510493080.3
- 苏科缙;张国忠;吴铭伟;黄伟铨;杨学人;陈智谦 - 汉辰科技股份有限公司
- 2015-08-12 - 2018-10-16 - H01J37/08
- 本发明提出离子布植方法与离子布植机。布植气体与稀释气体被传输至离子源的流量的比例被控制在3:1到20:1之间。布植气体可以是磷化氢、三氟化硼、二氧化碳、四氟化锗、砷化氢、一氧化碳、四氟化碳、氮、四氟化硅或其组合，而稀释气体可以是氢、氦或其组合。当稀释气体同时有氦与氢时，氦与氢的体积比例被控制在1:99到3:17之间。藉由使用这样特定的程序，离子源的使用期限得以延长。
- 离子源温度控制装置-201580043549.1
- 奎格·R·钱尼;威廉·戴维斯·李;奈尔·J·巴森 - 瓦里安半导体设备公司
- 2015-06-11 - 2018-09-28 - H01J37/08
- 本发明公开了一种用于控制离子源的温度的离子源温度控制装置。离子源包含多个壁，所述多个壁界定离子在其中生成的腔室。为了控制离子源的温度，一个或多个可移动挡热板安置到腔室外部。可移动挡热板由设计为将热量反射回到离子源的高温和/或耐火材料制成。在第一位置时，这些可移动挡热板经安置以将第一量的热量反射回到离子源。在第二位置时，这些可移动挡热板经安置以将较少的第二量的热量反射回到离子源。在一些实施例中，可移动挡热板可以安置在位于第一位置与第二位置之间的一个或多个中间位置中。
- 专利分类
