[发明专利]一种双基岛引线框架及其制备工艺在审

专利信息
申请号: 202310105068.5 申请日: 2023-02-13
公开(公告)号: CN116364684A 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 沈健;高迎阳;陈奉明 申请(专利权)人: 泰州东田电子有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L21/48
代理公司: 合肥左心专利代理事务所(普通合伙) 34152 代理人: 朱磊
地址: 225300 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及半导体封装技术领域,具体为一种双基岛引线框架,包括板体,所述板体正面的上下侧开设有若干定位孔、工艺定位孔,所述板体上开设有若干均匀分布的框架单元,且框架单元上设置有相互独立的封装体,所述封装体上设置有相邻的第一基岛、第二基岛。该双基岛引线框架及其制备工艺,通过以精密冲压框架取代蚀刻框架,节能减排,在冲压时基本不会造成废水、废液排放,对环境几乎不会造成污染,此外采用冲压生产的方式,效率较高,可达到蚀刻生产的几十倍,能耗与人工成本大幅度减少,降低产品的价格,半导体生产企业的采购成本大为降低,提高了产品的竞争力。
搜索关键词: 一种 双基岛 引线 框架 及其 制备 工艺
【主权项】:
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