[实用新型]一种评估M0A金属层工艺对EPI影响的测试结构有效
| 申请号： | 202222643144.1 | 申请日： | 2022-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN218568836U | 公开（公告）日： | 2023-03-03 |
| 发明（设计）人： | 张璐;张飞虎 | 申请（专利权）人： | 杭州广立微电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544;H01L21/66 |
| 代理公司： | 江苏坤象律师事务所 32393 | 代理人： | 赵新民 |
| 地址： | 310012 浙江省杭州市西*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型提供一种评估M0A金属层工艺对EPI影响的测试结构，包括若干测试单元；所述测试单元包括：有源区、第一连接部、第二连接部、第三连接部和设置在所述有源区上的M0A金属层；所述有源区包括Fin结构及EPI结构；所述第一连接部至少有两个，分别设置在所述有源区延伸方向上的两端，所述M0A金属层包括在两端的所述第一连接部之间沿所述有源区延伸方向排列的若干目标金属线；所述第一连接部通过所述第二连接部与所述第三连接部电连接，由所述第三连接部连出。其结构简单，易于制造，广泛适用于集成电路制造过程中评估M0A金属层工艺对EPI的影响，能够有效实现对EPI性能的监控，利于提高器件性能水平与产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 评估 m0a 金属 工艺 epi 影响 测试 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州广立微电子股份有限公司，未经杭州广立微电子股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202222643144.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种危险废物焚烧用炉渣金属回收装置
- 下一篇：一种废旧金属回收用金属撕碎机
