[实用新型]电池硅片薄膜沉积设备有效
| 申请号: | 202222636212.1 | 申请日: | 2022-10-08 |
| 公开(公告)号: | CN218539823U | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
| 发明(设计)人: | 赖汉臻;刘为忠;龚曙东;赖权锋 | 申请(专利权)人: | 广东洋浦科技股份有限公司;赖汉臻 |
| 主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/24;H01L31/18;H01L21/205 |
| 代理公司: | 珠海飞拓知识产权代理事务所(普通合伙) 44650 | 代理人: | 陈李青 |
| 地址: | 519010 广东省珠海市高新区唐家湾镇*** | 国省代码: | 广东;44 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本实用新型为电池硅片薄膜沉积设备,具有沉积箱、加热板、进气管和排气管,沉积箱上端设有便于电池硅片取放的箱口,箱口沿沉积箱长度方向的一侧铰接有用于箱口密封的密封盖板;加热板沿沉积箱长度方向分布竖直的固定于沉积箱内底部,沉积箱内底部位于加热板沿沉积箱宽度方向的两侧对称竖直的固定有两用于电池硅片限位放置的放置板;进气管固定于沉积箱沿其长度方向的一侧表面。对混合气体搅拌,提高混合均匀程度,最终气体由分流孔均流导入至沉积箱内部,结合加热板的加热效果,可对两侧的电池硅片同时实现覆膜效果,同时通过改变进气管和排气管的布置方式,使得进气管和排气管横向的分布在沉积箱的两侧,更有利于实现薄膜沉积的进行。 | ||
| 搜索关键词: | 电池 硅片 薄膜 沉积 设备 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





