[实用新型]一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备

摘要

本实用新型属于化学气相沉积技术领域，尤其是涉及一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，包括炉体，其在内部构成沉积空腔；所述炉体的上端设置有第一进气孔，所述炉体的下端侧壁上设置有出气孔；所述炉体的内壁上紧贴设置有引流环并能够升降滑动设置，所述引流环内壁面为引流面，所述引流面从上到下向引流环的圆心方向倾斜延伸设置并呈倾斜的斜面状；所述炉体内腔底部设置有用于承载基体的载置台。该沉积设备其能够沉积多种形状的基体，且碳化硅涂层的致密性和均匀性较好，进一步拓宽了沉积腔室的使用范围，降低了经济成本。