[实用新型]一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于:包括炉体(2)，其在内部构成沉积空腔；所述炉体(2)的上端设置有第一进气孔(21)，所述炉体(2)的下端侧壁上设置有出气孔(23)；所述炉体(2)的内壁上紧贴设置有引流环(3)并能够升降滑动设置，所述引流环(3)内壁面为引流面(31)，所述引流面(31)从上到下向引流环(3)的圆心方向倾斜延伸设置并呈斜面状；所述炉体(2)内腔底部设置有用于承载基体的载置台(64)。

2.根据权利要求1所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述引流面(31)的上端和炉体(2)的内壁面光滑过渡衔接。

3.根据权利要求1所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述炉体(2)通过支架(1)连接支撑固定，所述炉体(2)的底部均布有至少三个气缸(4)，所述气缸(4)的活塞杆(41)伸入到炉体(2)内腔中，且活塞杆(41)的末端和引流环(3)的底端可拆卸连接。

4.根据权利要求3所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述炉体(2)的上端外壁向上凸出形成凸环，并于内部形成环形的容纳腔体(22)，所述引流环(3)能够上升到容纳腔体(22)中设置。

5.根据权利要求1所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述出气孔(23)设置有若干个，圆周均布在炉体(2)下端侧壁上。

6.根据权利要求1所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述炉体(2)的底侧中心设置有转轴(6)，所述转轴(6)的上端连接有载置台(64)，所述转轴(6)另一端伸到炉体(2)外侧并和旋转电机(7)连接传动。

7.根据权利要求6所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述载置台(64)的内部设置有加热机构(65)。

8.根据权利要求7所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述转轴(6)内设置有环形通道(62)，在转轴(6)的上端圆周上均布有若干个和环形通道(62)连通的第二进气孔(63)，所述第二进气孔(63)向转轴(6)的中心倾斜向上延伸设置。

9.根据权利要求1所述的碳化硅涂层生产用化学气相沉积设备，其特征在于：所述引流面(31)的外轮廓线设置成直线或曲线状。