[发明专利]金属氧化物半导体场效应晶体管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202211680292.9 申请日: 2022-12-26
公开(公告)号: CN116130480A 公开(公告)日: 2023-05-16
发明(设计)人: 罗烨辉;王亚飞;郑昌伟;王志成;刘启军;刘小东;李诚瞻 申请(专利权)人: 株洲中车时代半导体有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/088;H01L29/417;H01L21/70
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 郑哲琦;吴昊
地址: 412001 湖南省株洲市石峰*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供一种金属氧化物半导体场效应晶体管及其制造方法,该晶体管通过在JFET区集成肖特基势垒二极管,改善了碳化硅双极退化现象,提高芯片可靠性,降低了模块封装成本;槽式结构的肖特基势垒二极管,有效的保护对金属氧化物半导体场效应晶体管的JFET区电场及肖特基势垒二极管的肖特基接触电场进行保护,提升金属氧化物半导体场效应晶体管的阻断能力;槽型式的源极结构,在三维空间上增加了源孔的接触面积,降低了源接触电阻对器件整体电阻的影响,利于更大电流容量的输出。
搜索关键词: 金属 氧化物 半导体 场效应 晶体管 及其 制造 方法
【主权项】:
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