[发明专利]精密掩模版及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202211278083.1 申请日: 2022-10-19
公开(公告)号: CN115449747A 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 戴伟杰;赵晶晶;张盼龙;马建东;刘同辉 申请(专利权)人: 云谷(固安)科技有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 邱婧雯;黄健
地址: 065500 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 本申请提供一种精密掩模版及其制作方法,涉及显示技术领域,用于解决张网时精密掩模版易出现褶皱的技术问题。该精密掩模版具有相连接的边框区和蒸镀区;位于蒸镀区的精密掩模版具有呈阵列排布的多个蒸镀开口;任一蒸镀开口和与其相邻的所有的蒸镀开口中,任意相邻的两个蒸镀开口的内侧面相交的区域形成第一阻隔部,第一阻隔部的厚度小于位于边框区的精密掩模版的厚度;任意相邻的两个蒸镀开口的内侧面不相交的区域形成第二阻隔部,第二阻隔部的厚度小于位于边框区的精密掩模版的厚度。该精密掩模版,能够减小或消除第一阻隔部和第二阻隔部之间的厚度差异,提高精密掩模版的强度均匀性,从而避免施加拉力时精密掩模版出现褶皱。
搜索关键词: 精密 模版 及其 制作方法
【主权项】:
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