[发明专利]精密掩模版及其制作方法

权利要求书

1.一种精密掩模版，其特征在于，所述精密掩模版具有相连接的边框区和蒸镀区；位于所述蒸镀区的所述精密掩模版具有呈阵列排布的多个蒸镀开口；

任一所述蒸镀开口和与其相邻的所有的所述蒸镀开口中，任意相邻的两个所述蒸镀开口的内侧面相交的区域形成第一阻隔部，所述第一阻隔部的厚度小于位于所述边框区的所述精密掩模版的厚度；任意相邻的两个所述蒸镀开口的内侧面不相交的区域形成第二阻隔部，所述第二阻隔部的厚度小于位于所述边框区的所述精密掩模版的厚度。

2.根据权利要求1所述的精密掩模版，其特征在于，所述第一阻隔部的厚度与所述第二阻隔部的厚度之比大于百分之六十，且小于或等于百分之百。

3.根据权利要求1所述的精密掩模版，其特征在于，多个所述蒸镀开口呈矩阵排布，任意相邻两行中任意相邻的四个所述蒸镀开口包围一个所述第二阻隔部。

4.根据权利要求1所述的精密掩模版，其特征在于，任一行中的所述蒸镀开口和与其相邻行中的所述蒸镀开口错位设置，该相邻两行中任意相邻的三个所述蒸镀开口包围一个所述第二阻隔部；

优选地，所述精密掩模版包括被配置为朝向待蒸镀基板的第一表面，以及被配置为朝向蒸镀源的第二表面；

所述蒸镀开口包括相连通的第一凹槽和第二凹槽，所述第一凹槽由所述第一表面向所述第二表面的方向延伸，且在所述第一表面形成第一开口；所述第二凹槽由所述第二表面向所述第一表面的方向延伸，且在所述第二表面形成第二开口，所述第二凹槽和所述第一凹槽相交的区域形成阻挡环，所述第二开口在所述第一表面的正投影覆盖所述第一开口，所述阻挡环在所述第一表面的正投影位于所述第一开口内。

5.一种精密掩模版的制作方法，其特征在于，包括：

提供基板，所述基板具有相连接的边框区和蒸镀区；

在所述蒸镀区的所述基板上形成呈阵列排列的多个蒸镀开口；任一所述蒸镀开口和与其相邻的所有的所述蒸镀开口中，任意相邻的两个所述蒸镀开口的内侧面相交的区域形成第一阻隔部，所述第一阻隔部的厚度小于位于所述边框区的所述基板的厚度；去除任意相邻的两个所述蒸镀开口的内侧面不相交的区域的部分所述基板，以形成第二阻隔部，所述第二阻隔部的厚度小于位于所述边框区的所述基板的厚度。

6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述基板包括被配置为朝向待蒸镀基板的第一表面，以及被配置为朝向蒸镀源的第二表面；

在所述蒸镀区的所述基板上形成呈阵列排列的多个蒸镀开口，包括：

通过第一掩模版对所述基板进行图形化，以形成由所述第一表面向所述第二表面延伸且呈所述阵列排布的多个第一凹槽；

通过第二掩模版对所述基板进行图形化，以形成由所述第二表面向所述第一表面延伸，且与多个所述第一凹槽一一对应的多个第二凹槽，每个所述第二凹槽均与对应的所述第一凹槽相连通形成所述蒸镀开口；在任一所述第二凹槽和与其相邻的所有的所述第二凹槽中，去除任意相邻的两个所述第二凹槽的内侧面不相交的区域的部分所述基板，以形成所述第二阻隔部。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述第二掩模版具有多个第一通孔和多个第二通孔，多个所述第一通孔与多个所述第二凹槽一一对应设置；任一所述第二凹槽和与其相邻的所有的所述第二凹槽中，任意相邻的两个所述第二凹槽的内侧面不相交的区域的所述基板与所述第二通孔对应设置；

优选地，所述第一通孔的孔壁和与其相邻的所述第二通孔的孔壁之间的最小距离大于或等于1μm，且小于或等于3μm；

优选地，所述第一通孔为矩形孔；

优选地，所述第二通孔为圆孔或矩形孔。