[发明专利]一种正性光刻胶组合物及其制备与使用方法在审

专利信息
申请号: 202211201501.7 申请日: 2022-09-29
公开(公告)号: CN115421354A 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 傅志伟;王文毅;吴信;朱玉呈;戴文超;梅崇余;潘新刚 申请(专利权)人: 徐州博康信息化学品有限公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039
代理公司: 上海智晟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31313 代理人: 张东梅
地址: 221003 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种正性光刻胶组合物及其制备与使用方法,所述光刻胶组合物包括如下质量百分比的各组分:聚合物树脂,光刻胶组合物总质量的15~25%;萘酰亚胺类光致产酸剂,聚合物树脂的1.0~6.0%;酸扩散控制剂,萘酰亚胺类光致产酸剂的8~40%;流平剂,光刻胶组合物总质量的0.1~0.5%;溶剂,补足百分百;所述聚合物树脂包括第一聚合物树脂和第二聚合物树脂。制备方法包括以下步骤:将正性光刻胶组合物的各组分混合。使用方法包括以下步骤:将正性光刻胶组合物涂布在硅片上,依次经过前烘、曝光、后烘和显影,得到光刻图案。本发明提供的正性光刻胶组合物可以有效降低驻波效应,增加光刻胶图形侧壁的垂直性,提高光刻胶成像的分辨率。
搜索关键词: 一种 光刻 组合 及其 制备 使用方法
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