[发明专利]半导体清洗设备的卡盘结构、半导体清洗设备及方法有效

专利信息
申请号: 202211055538.3 申请日: 2022-08-31
公开(公告)号: CN115424974B 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 杨慧毓;王海阔;宋爱军;刘本锋;张敬博;卢夕生;谢志勇 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01L21/687 分类号: H01L21/687;H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 彭瑞欣;王婷
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种半导体清洗设备的卡盘结构及半导体清洗设备,该卡盘结构包括用于承载晶圆的卡盘基体,在卡盘基体与晶圆相对的第一表面的边缘处形成有多个避让凹部,多个避让凹部与机械手在取放晶圆时与晶圆的接触位置一一对应地设置,用以避免机械手在取放晶圆时接触卡盘基体;在卡盘基体中设置有第一气体通道,第一气体通道在第一表面上具有多个第一出气口,多个第一出气口沿第一表面的周向间隔分布;每个第一出气口的喷气方向均朝向晶圆的与卡盘基体相对的表面外侧倾斜。本发明实施例可以降低机械手的位置校准难度,避免在晶圆边缘处产生颗粒污染和腐蚀。
搜索关键词: 半导体 清洗 设备 卡盘 结构 方法
【主权项】:
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