[发明专利]匀气装置及半导体工艺设备

摘要

本发明提供一种匀气装置及半导体工艺设备，包括沿进气方向依次设置的第一匀气盘、第二匀气盘和第三匀气盘，其中，第一匀气盘的中心设置有第一进气孔，第二匀气盘的中心设置有第二进气孔；第一匀气盘和第二匀气盘之间形成有相对于第一匀气盘的中心对称分布的多个第一匀气通道；第二匀气盘与第三匀气盘之间设置有多个第二匀气通道和多个第三匀气通道，且多个第二匀气通道与多个第三匀气通道均相对于第一匀气盘的中心对称分布，且相互隔离；各个连接通道的出气端一一对应地与各个第二匀气通道连通。本发明提供的匀气装置及半导体工艺设备，不仅可以降低加工难度，提高洁净度，而且还可以提高匀气效果和进气效率。