[发明专利]一种超声换能器及其制备方法和应用在审
申请号: | 202210839758.9 | 申请日: | 2022-07-18 |
公开(公告)号: | CN115274716A | 公开(公告)日: | 2022-11-01 |
发明(设计)人: | 李明;刘玉荣;姚若河;耿魁伟 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L27/13 | 分类号: | H01L27/13;H01L21/336;H01L29/786;H01L41/08;H01L41/22;A61B8/00 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 齐键 |
地址: | 510641 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种超声换能器及其制备方法和应用。本发明的超声换能器的组成包括依次设置的柔性衬底、薄膜晶体管、压电触觉传感器和电容式微加工超声换能器。本发明的超声换能器的制备方法包括以下步骤:在柔性衬底上依次制备薄膜晶体管、压电触觉传感器和电容式微加工超声换能器,即得超声换能器。本发明的超声换能器兼具超声成像和触觉传感功能,具有超声驱动电压低、信噪比高、灵敏度高、可寻址阵列化、柔性可弯曲等优点,适合进行大规模推广应用。 | ||
搜索关键词: | 一种 超声 换能器 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
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- 杨成刚;苏贵东 - 贵州振华风光半导体有限公司
- 2011-12-28 - 2012-08-08 - H01L27/13
- 高集成高可靠工作温度可控厚膜混合集成电路,包括器件管壳基座(1)、管脚(9)、上陶瓷基片(2)、下陶瓷基片(12)、半导体芯片(3)、热敏元件(4)、厚膜阻带(5)、厚膜导带/键合区(6)、N型半导体(7)、P型半导体(8)、微型热电致冷器(11)和绝缘介质(10),上陶瓷基片(2)正面为常规的混合集成电路;背面集成微型热电致冷器(11)和N型半导体(7)及P型半导体(8);N型半导体(7)、P型半导体(8)两端有引出连接线,填充有绝缘介质(10);下陶瓷基片(12)背面通过金属膜置于器件管壳基座(1)之上;管脚(9)装在器件管壳基座(1)两端。本集成电路可以解决外界温度在125℃以上或-55℃以下的正常工作问题。广泛应用于航天、航空、船舶、精密仪器、地质勘探、石油勘探、通讯等领域。
- 高集成高可靠工作温度可控薄膜混合集成电路的集成方法-201110445748.9
- 杨成刚;苏贵东 - 贵州振华风光半导体有限公司
- 2011-12-28 - 2012-06-27 - H01L27/13
- 高集成高可靠工作温度可控薄膜混合集成电路及其集成方法,该电路由器件管壳基座(1)、管脚(9)、氮化铝陶瓷基片(2)、半导体芯片(3)、热敏元件(4)、薄膜阻带(5)、薄膜导带/键合区(6)、N型半导体(7)、P型半导体(8)、微型热电致冷器(11)和绝缘介质(10)组成,陶瓷基片(2)正面是微型热电致冷器(11)与常规混合集成电路的一体化集成;N型半导体(7)、P型半导体(8)两端引有连接线,之间填充绝缘介质(10);陶瓷基片(2)置于器件管壳基座(1)之上。集成方法是高真空溅射并进行刻蚀形成金属电极、N型半导体、P型半导体。本集成电路可以解决外界温度在125℃以上或-55℃以下的正常工作问题。广泛应用于航天、航空、船舶、精密仪器、地质勘探、石油勘探、通讯等领域。
- 半导体器件和制造它的方法-201010201360.X
- 鹤目卓也 - 株式会社半导体能源研究所
- 2006-01-18 - 2011-01-19 - H01L27/13
- 本发明的目的是提供具有足以用作天线的导电膜的半导体器件,和制造它的方法。半导体器件具有设置在衬底上的包括晶体管的元件形成层,设置在元件形成层上的绝缘膜,和设置在绝缘膜上的用作天线的导电膜。绝缘膜具有槽。导电膜沿绝缘膜和槽的表面设置。绝缘膜的槽可被设置穿过绝缘膜。或者,可在绝缘膜中设置凹形部分以便不穿过绝缘膜。对槽的结构没有特殊限制,例如,可设置槽具有锥形形状等。
- 膜状物品及其制作方法-201010235687.9
- 荒井康行;秋叶麻衣;神野洋平;舘村祐子 - 株式会社半导体能源研究所
- 2005-01-20 - 2010-12-15 - H01L27/13
- 本发明涉及膜状物品及其制作方法。由于由硅晶片形成的芯片厚,因此该芯片从表面突出,或者该芯片如此大以至于通过眼睛能看到它,这影响了商务卡等的设计。因此,本发明的目的是提供一种新的集成电路,其具有一种结构,利用该结构不会影响所述设计。鉴于上述问题,本发明的特征是使膜状物品配备有薄膜集成电路。本发明的另一特征是IDF芯片具有0.2mm或更小的半导体膜作为有源区。因此,与由硅晶片形成的芯片相比,IDF芯片可以被制作得更薄。除此之外,与由硅晶片形成的芯片不同,这种集成电路可以具有透光特性。
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的