[发明专利]半导体晶片在审
申请号: | 202210600263.0 | 申请日: | 2018-11-02 |
公开(公告)号: | CN115000030A | 公开(公告)日: | 2022-09-02 |
发明(设计)人: | 克里斯·哈迪曼;荣-槿·李;法比亚·拉杜勒斯库;丹尼尔·纳米希亚;斯科特·托马斯·谢泼德 | 申请(专利权)人: | 沃孚半导体公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/06 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 刘凤迪 |
地址: | 美国北卡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种半导体晶片,包括基底,所述基底包括由基底终止边缘限定的边界;有源区域,所述有源区域通过势垒区域与所述基底终止边缘隔离;以及在所述势垒区域上的电荷重新分配路径,其中,所述电荷重新分配路径耦接到电位。本申请的半导体晶片具有改进的强度。 | ||
搜索关键词: | 半导体 晶片 | ||
【主权项】:
暂无信息
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