[发明专利]一种半导体结构在审
申请号: | 202210599310.4 | 申请日: | 2022-05-30 |
公开(公告)号: | CN115020471A | 公开(公告)日: | 2022-09-06 |
发明(设计)人: | 肖剑锋;唐怡 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06;H01L29/10;H01L27/108 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 张李静;王黎延 |
地址: | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本公开实施例提供了一种半导体结构,包括:衬底以及位于所述衬底上方的有源柱,所述有源柱沿第一方向延伸,所述第一方向与衬底平面平行;所述有源柱包括沿第一方向延伸的体区以及环绕所述体区的外围区;所述外围区包括沟道区;其中,所述沟道区的掺杂离子类型和所述体区的掺杂离子类型相同,且所述沟道区的掺杂浓度大于所述体区的掺杂浓度。 | ||
搜索关键词: | 一种 半导体 结构 | ||
【主权项】:
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