[发明专利]类晶体管冗余图形添加方法及存储介质在审
申请号: | 202210597555.3 | 申请日: | 2022-05-30 |
公开(公告)号: | CN115081379A | 公开(公告)日: | 2022-09-20 |
发明(设计)人: | 李佳佳;曹云;魏芳 | 申请(专利权)人: | 上海华力集成电路制造有限公司 |
主分类号: | G06F30/392 | 分类号: | G06F30/392 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 焦天雷 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种类晶体管冗余图形添加方法,包括:选出类晶体管冗余图形的可添加区域;在可添加区域添加类晶体管冗余图形;拆分定义类晶体管冗余图形单元定义可重复区域和可拉伸区域;根据类晶体管冗余图形单元距离避开区域边界的最小距离判断是否对该类晶体管冗余图形单元进行复制和/或拉伸;沿类晶体管冗余图形第一方向复制可重复的栅区域;和/或,沿类晶体管冗余图形第二方向拉伸可拉伸的栅区域;将无处理的类晶体管冗余图形与部分区域复制拉伸后的类晶体管冗余图形合并。本发明相对现有技术能提高类晶体管冗余图形的添加量,实现更充分冗余图形添加,使得版图分布更加均匀,进而降低工艺制造过程中的制造缺陷,提升产品良率和可靠性。 | ||
搜索关键词: | 晶体管 冗余 图形 添加 方法 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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