[实用新型]用于半导体加工设备的吸收罩及半导体加工设备有效
| 申请号： | 202120266714.2 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN214588732U | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 侯军令;陈宇 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 | 代理人： | 孙佳胤 |
| 地址： | 430074 湖北省武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 该实用新型公开了一种用于半导体加工设备的吸收罩及半导体加工设备，所述吸收罩内形成有操作腔，所述吸收罩的底部设有罩设口，用于罩设于机台上，所述吸收罩还设有连通所述操作腔与外界的吸气口和操作口，所述吸气口用于连接吸气管道，所述操作口用于操作者的手伸入所述操作腔内。根据本实用新型的用于半导体加工设备的吸收罩，能够避免由于化学品挥发导致的气体侦测器误报警，以降低工作人员的工作负荷。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体 加工 设备 吸收 | ||
【主权项】：
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