[发明专利]半导体装置有效

专利信息
申请号: 202111335062.4 申请日: 2017-01-17
公开(公告)号: CN114093890B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 中泽安孝;肥塚纯一;羽持贵士 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L27/146;H01L27/15;H01L29/417;H01L29/45;H01L21/34;H01L29/786;H10B12/00;H01L21/8234;H01L21/768;H01L21/8258;H01L27/06;H01L27/088
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 刘多益;张佳鑫
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在包括氧化物半导体膜的半导体装置中,提供一种包括电特性优良的晶体管的半导体装置。本发明是一种包括晶体管的半导体装置。晶体管包括栅电极、第一绝缘膜、氧化物半导体膜、源电极、漏电极以及第二绝缘膜。源电极及漏电极都包括第一导电膜、在第一导电膜上并与其接触的第二导电膜以及在第二导电膜上并与其接触的第三导电膜。第二导电膜包含铜,第一导电膜及第三导电膜包含氧化物,第二导电膜的端部包括包含铜及另一种元素的区域。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
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