[发明专利]鳍部形貌优化的鳍式晶体管及制作方法在审
| 申请号： | 202111037059.4 | 申请日： | 2021-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN113889527A | 公开（公告）日： | 2022-01-04 |
| 发明（设计）人： | 丁宇;朱建军 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司;上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/10 | 分类号： | H01L29/10;H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司： | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人： | 黄海霞 |
| 地址： | 201800 上海市嘉定*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供一种鳍部形貌优化的鳍式晶体管，鳍部包括位于衬底上的第一子鳍部和位于所述第一子鳍部上的第二子鳍部；氧化层，位于所述衬底上，且覆盖所述第一子鳍部和第二子鳍部的侧壁和顶面；其中：沿垂直于所述衬底表面的第一方向，所述第二子鳍部的剖面自上而下具有相连的顶圆弧段、位于所述顶圆弧段两侧的侧圆弧段和底圆弧段。通过氧化层和外延层的厚度控制第二交界宽度，而第一子鳍部宽度和第一交界宽度保持不变，实现提高器件饱和电流的同时，不造成漏电流的增大，从而有效提升器件性能I |
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| 搜索关键词： | 形貌 优化 晶体管 制作方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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