[发明专利]一种高结晶质量碳化硅单晶片及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110909300.1 申请日: 2021-08-09
公开(公告)号: CN113604883B 公开(公告)日: 2023-05-09
发明(设计)人: 娄艳芳;刘春俊;王光明;姚静;雍庆;赵宁;彭同华;杨建 申请(专利权)人: 北京天科合达半导体股份有限公司;新疆天科合达蓝光半导体有限公司;江苏天科合达半导体有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B15/20
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 纪志超
地址: 102600 北京市大兴区中关村科技*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种碳化硅单晶片,所述碳化硅单晶片的原子面向C面弯曲,Si面原子面的弯曲度大于C面原子面的弯曲度。本发明提供了一种(0001)原子面向C面弯曲,且Si面原子面弯曲度大于C面原子面弯曲度的碳化硅单晶片,以本发明提供的SiC单晶片为衬底进行Si面外延,高温时,原子面都向铺平方向形变,且Si面变形量大于C面变形量,外延结束降温之后,衬底原子面倾向于恢复初始的形状,于是Si面原子面与外延层具有相反的拉伸方向,在一定程度上缓解了外延片向上凸的程度,大大降低了由于外延后面型不合格的比例。本发明还提供了一种碳化硅单晶片的制备方法。
搜索关键词: 一种 结晶 质量 碳化硅 晶片 及其 制备 方法
【主权项】:
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