[发明专利]边缘进气组件及半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202110863756.9 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN115692146A | 公开（公告）日： | 2023-02-03 |
| 发明（设计）人： | 王志伟 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/305 | 分类号： | H01J37/305;H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种边缘进气组件，用于设置于工艺腔室的顶部开口上，自工艺腔室的边缘向工艺腔室内通入工艺气体，边缘进气组件包括：上环盖、中环盖、下环盖和进气管路，上环盖、中环盖和下环盖叠置于工艺腔室上，上环盖上设有至少一个进气孔，进气孔通过进气管路引入工艺气体；下环盖的内环壁上环绕设有多个喷气孔，喷气孔用于向工艺腔室内喷出工艺气体；上环盖和中环盖之间形成有至少一组匀气组合气道，每组匀气组合气道分别与一个进气孔和多个喷气孔连通，通过匀气组合气道将进气孔引入的工艺气体从多个喷气孔中排出。本发明提供的边缘进气组件能够在保证进气均匀性的同时，提高进气结构整体稳定性及维护性能。本发明还提供一种半导体工艺设备。 | ||
| 搜索关键词： | 边缘 组件 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
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