[发明专利]用于封装的转接板及其制备方法、半导体封装结构在审

专利信息
申请号: 202110721421.3 申请日: 2021-06-28
公开(公告)号: CN115602605A 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 杨玉杰;潘远杰;周祖源;林正忠 申请(专利权)人: 盛合晶微半导体(江阴)有限公司
主分类号: H01L21/768 分类号: H01L21/768;H01L23/48
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 贺妮妮
地址: 214437 江苏省无锡市江阴市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种用于封装的转接板及其制备方法、半导体封装结构,该制备方法包括:提供包括支撑基底、分离层及硅衬底的叠层结构,硅衬底中形成有TSV孔,TSV孔中有铜导电柱,铜导电柱与TSV孔侧壁之间有扩散阻挡层;研磨硅衬底的上表面至TSV孔完全露出;采用化学机械抛光工艺抛光叠层结构的上表面;采用湿法刻蚀工艺刻蚀铜导电柱预设深度,形成刻蚀凹槽;于刻蚀凹槽中填充满保护层;刻蚀硅衬底的上表面至裸露出铜导电柱;采用化学气相沉积工艺于硅衬底的上表面形成绝缘层。通过湿法刻蚀形成刻蚀凹槽并结合填充于其中的保护层,可有效避免整个转接板制备过程中所有铜导电柱的铜粒子扩散至硅衬底的可能性,有效提高了封装结构的性能。
搜索关键词: 用于 封装 转接 及其 制备 方法 半导体 结构
【主权项】:
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