[发明专利]半导体结构在审

专利信息
申请号: 202110660780.2 申请日: 2021-06-15
公开(公告)号: CN113540087A 公开(公告)日: 2021-10-22
发明(设计)人: 朱峯庆;李威养;林家彬 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/092 分类号: H01L27/092;H01L27/088;H01L21/8238;H01L21/8234
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种半导体结构,包括:隔离结构;第一源极/漏极部件(S/D)以及第二源极/漏极部件,在隔离结构上,定义第一方向,在俯视图中,第一方向从第一源极/漏极部件至第二源极/漏极部件;一个或多个通道层,连接第一源极/漏极部件以及第二源极/漏极部件;栅极结构,在第一源极/漏极部件以及第二源极/漏极部件之间,且齿合每个通道层;以及导孔结构,在第一源极/漏极部件下方,且电性连接至第一源极/漏极部件。在垂直于第一方向的剖面图中,导孔结构具有轮廓,轮廓沿着由下至上的方向由宽至窄。
搜索关键词: 半导体 结构
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110660780.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top