[发明专利]掩膜版、阵列基板的制作方法和显示装置

摘要

本申请涉及一种掩膜版、阵列基板的制作方法和显示装置。阵列基板包括多个第一连接孔和多个第二连接孔。第一连接孔周围的走线面积小于第二连接孔周围的走线面积。掩膜版包括掩膜版主体。掩膜版主体设置有多个第一通光孔和多个第二通光孔。第一通光孔对应第一连接孔。第二通光孔对应第二连接孔。在曝光的条件下，第一通光孔的辐射通量大于第二通光孔的辐射通量。通过使第一通光孔的辐射通量大于第二通光孔的辐射通量，能够弥补在形成第一连接孔的图案时的曝光量。因此使在曝光工艺中，形成第一连接孔的图案时的曝光量等于或者趋于等于形成第二连接孔的图案时的曝光量。因此使第一连接孔和第二连接孔的尺寸相等或者趋于相等，从而提高产品良率。