[发明专利]半导体器件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202110492159.X 申请日: 2021-05-06
公开(公告)号: CN113224071A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 刘峻 申请(专利权)人: 长江先进存储产业创新中心有限责任公司
主分类号: H01L27/11524 分类号: H01L27/11524;H01L27/11556;H01L27/1157;H01L27/11582;H01L27/24;H01L21/50;G11C5/02
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 远明
地址: 430000 湖北省武汉市武汉东湖新技术开发*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种半导体器件及其制备方法,包括:彼此键合的多片晶圆,分别设置在多片晶圆上的多种存储阵列,分别与多种存储阵列一一对应电连接的多个驱动器,以及在多片晶圆的其中一片晶圆上设置的共用控制器,共用控制器分别与多个驱动器电连接,用于控制多个驱动器对多种存储阵列的数据处理,由于本发明提供的半导体器件中的共用控制器可以通过控制多个驱动器而控制多种存储阵列进行读写操作,从而当半导体器件需要进行存储器的变更等操作时,无需借助外部电路以及走线便可进行数据通信,因而有效地提高了半导体器件中不同存储阵列之间的数据通信速度,同时,减小了半导体器件的制造成本。
搜索关键词: 半导体器件 及其 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
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