[发明专利]高质量碳化硅籽晶、碳化硅晶体、碳化硅衬底及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110484326.6 申请日: 2021-04-30
公开(公告)号: CN113186601B 公开(公告)日: 2022-09-30
发明(设计)人: 彭同华;王波;赵宁;娄艳芳;郭钰;张贺;刘春俊;杨建 申请(专利权)人: 北京天科合达半导体股份有限公司;江苏天科合达半导体有限公司;新疆天科合达蓝光半导体有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 豆贝贝
地址: 102600 北京市大兴区中关村科技*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种高质量碳化硅籽晶、碳化硅晶体、碳化硅衬底及其制备方法。本发明制备高质量的碳化硅籽晶,并控制碳化硅粉料、石墨坩埚及保温材料的杂质浓度,结合一定的晶体生长工艺以及晶片加工方式,得到了高质量的碳化硅衬底。所得碳化硅衬底具有高的结晶质量,极低的微管数量、螺位错密度和复合位错密度;同时具有极低的p型杂质浓度,表现出优良的电学性能;还具有高的表面质量。
搜索关键词: 质量 碳化硅 籽晶 晶体 衬底 及其 制备 方法
【主权项】:
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